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1. (WO2016043317) レジストパターン被覆用塗布液
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/043317    国際出願番号:    PCT/JP2015/076715
国際公開日: 24.03.2016 国際出願日: 18.09.2015
IPC:
C09D 201/00 (2006.01), C08F 212/12 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 7/00 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: NISHITA, Tokio; (JP).
SHIGAKI, Shuhei; (JP).
FUJITANI, Noriaki; (JP).
ENDO, Takafumi; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
代理人: HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2014-190849 19.09.2014 JP
2014-201382 30.09.2014 JP
発明の名称: (EN) APPLICATION SOLUTION FOR RESIST PATTERN COATING
(FR) SOLUTION D'APPLICATION POUR UN REVÊTEMENT DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) レジストパターン被覆用塗布液
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a novel application solution for resist pattern coating. [Solution] An application solution for resist pattern coating including: as component A, a polymer containing at least one hydroxy group or carboxy group; as component B, a sulfonic acid represented by A-SO3H (where A represents a linear or branched alkyl group or alkyl fluoride group having 1-16 carbon atoms, an aromatic group having at least one of these alkyl groups or alkyl fluoride groups as a substituent, or an optionally substituted alicyclic group having 4-16 carbon atoms); and, as component C, an organic solvent capable of dissolving the above polymer, the organic solvent comprising an ether or ketone compound represented by R-O-R and/or R-C(=O)-R (where R1 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group or alkyl fluoride group having 3-16 carbon atoms, and R2 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group or alkyl fluoride group having 1-16 carbon atoms). Also, a method for forming a resist pattern or reverse pattern using this application solution.
(FR)Le problème de l'invention concerne une nouvelle solution d'application pour un revêtement de motif de résine photosensible. La solution de l'invention porte sur une solution d'application pour un revêtement de motif de résine photosensible, comprenant : en tant que constituant A, un polymère contenant au moins un groupe hydroxy ou groupe carboxy; en tant que constituant B, un acide sulfonique représenté par A-SO3H (où A représente un groupe alkyle ou un groupe fluorure d'alkyle linéaire ou ramifié, comprenant 1 à 16 atomes de carbone, un groupe aromatique présentant au moins un de ces groupes alkyle ou groupes fluorure d'alkyle en tant que substituant ou un groupe alicyclique éventuellement substitué comprenant 4 à 16 atomes de carbone); et, en tant que constituant C, un solvant organique pouvant dissoudre le polymère ci-dessus, le solvant organique comprenant un composé de type éther ou cétone représenté par R1-O-R2 et/ou R1-C(=O)-R2 (où R1 représente un groupe alkyle ou un groupe fluorure d'alkyle linéaire, ramifié ou cyclique comprenant 3 à 16 atomes de carbone et R2 représente un groupe alkyle ou un groupe fluorure d'alkyle linéaire, ramifié ou cyclique, comprenant 1 à 16 atomes de carbone). L'invention concerne également un procédé de formation d'un motif de résine photosensible ou d'un motif inverse à l'aide de cette solution d'application.
(JA)【課題】新規なレジストパターン被覆用塗布液を提供する。 【解決手段】A成分:少なくとも1つのヒドロキシ基又はカルボキシ基を含有するポリマー、 B成分:A-SOH(式中、Aは炭素原子数1乃至16の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基もしくはフッ化アルキル基、該アルキル基もしくはフッ化アルキル基を置換基として少なくとも1つ有する芳香族基、又は置換基を有してもよい炭素原子数4乃至16の脂環式基を表す。)で表されるスルホン酸、並びに C成分:R-O-R及び/又はR-C(=O)-R(式中、Rは炭素原子数3乃至16の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基もしくはフッ化アルキル基を表し、Rは炭素原子数1乃至16の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基もしくはフッ化アルキル基を表す。)で表されるエーテル又はケトン化合物からなる、前記ポリマーを溶解可能な有機溶媒、 を含むレジストパターン被覆用塗布液、 並びに該塗布液を用いるレジストパターンあるいは反転パターンの形成方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)