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1. (WO2016043169) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/043169    国際出願番号:    PCT/JP2015/076075
国際公開日: 24.03.2016 国際出願日: 14.09.2015
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: NAMAI Hayato; (JP)
代理人: AMANO Kazunori; (JP)
優先権情報:
2014-188222 16.09.2014 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN) The present invention is a radiation-sensitive resin composition containing a compound which has a polymer having a structural unit including an acid-dissociable group, a radiation-sensitive acid generator, and an amine structure, wherein the amine structure changes to an amide structure, a thioamide structure, a nitrile structure, or an ammonium structure by exposure to radiation. The compound may be expressed by formula (1). In formula (1), R1 and R6 are hydrogen atoms, halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, univalent hydrocarbon groups, or univalent heterocycle groups. R2 to R5 are hydrogen atoms, halogen atoms, univalent hydrocarbon groups, univalent heterocycle groups, or represent a ring structure in which one or more groups selected from R2 and R3, R3 and R4, and R4 and R5 are joined with each other and configured along with carbon atoms to which the groups are bonded. X is an oxygen atom, a sulfur atom, -CRARB-, or -NRC-. RA, RB, and RC are hydrogen atoms, halogen atoms, or univalent organic groups.
(FR) La présente invention porte sur une composition de résine sensible au rayonnement contenant un composé qui a un polymère ayant une unité structurale comprenant un groupe dissociable par un acide, un générateur d'acide sensible au rayonnement, et une structure amine, la structure amine changeant en une structure amide, une structure thioamide, une structure nitrile, ou une structure ammonium par exposition à un rayonnement. Le composé peut être exprimée par la formule (1). Dans la formule (1), R1 et R6 sont des atomes d'hydrogène, des atomes d'halogène, des groupes cyano, des groupes hydroxyle, des groupes hydrocarbures univalents, ou des groupes hétérocycliques univalent. R2 à R5 sont des atomes d'hydrogène, des atomes d'halogène, des groupes hydrocarbures univalents, des groupes hétérocycliques univalents, ou représentent une structure cyclique dans laquelle un ou plusieurs groupes choisis parmi R2 et R3, R3 et R4, et R4 et R5 sont joints les uns aux autres et configurés avec des atomes de carbone auxquels les groupes sont liés. X est un atome d'oxygène, un atome de soufre, -CRARB-, ou -NRC-. RA, RB, et RC sont des atomes d'hydrogène, des atomes d'halogène, ou des groupes organiques univalents.
(JA) 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、感放射線性酸発生体、及びアミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記化合物が下記式(1)で表されるとよい。下記式(1)中、R及びRは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、1価の炭化水素基、又は1価の複素環基である。R~Rは、水素原子、ハロゲン原子、1価の炭化水素基、1価の複素環基であるか、又はR及びR、R及びR、並びにR及びRから選ばれる一組以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環構造を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-CR-又は-NR-である。R、R及びRは、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)