WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2016043005) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、ブロック共重合体、及び、ブロック共重合体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/043005    国際出願番号:    PCT/JP2015/074112
国際公開日: 24.03.2016 国際出願日: 26.08.2015
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: YOSHIDA Hayato; (JP).
KIMURA Keizo; (JP).
MIZUTANI Kazuyoshi; (JP)
代理人: TAKAMATSU Takeshi; (JP)
優先権情報:
2014-189424 17.09.2014 JP
発明の名称: (EN) PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, BLOCK COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING BLOCK COPOLYMER
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, COPOLYMÈRE À BLOCS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COPOLYMÈRE À BLOCS
(JA) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、ブロック共重合体、及び、ブロック共重合体の製造方法
要約: front page image
(EN)This block copolymer comprises a block of a repeating unit represented by one of general formulae (I-1)-(I-3) and a block of a repeating unit represented by general formula (II). (In the formulae, R1 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or the like; R2 represents an alkyl group or the like; each of R3 and R4 represents an alkyl group or the like; R5 represents a hydrogen atom, an alkyl group or the like; and R6 represents an alkyl group or cycloalkyl group which has at least two or more hydroxyl groups, a carboxyl group or the like.) A fine pattern that is formed by self-assembling lithography using a graphoepitaxy method with use of a block copolymer of the present invention has a high-definition high-quality lamellar shape in comparison to fine patterns that are formed by a similar technique using PS-b-PMMA or the like as the block copolymer.
(FR)L'invention concerne un copolymère à blocs comprenant un bloc d'une unité répétitive représentée par l'une des formules générales (I-1)-(I-3) et un bloc d'une unité répétitive représentée par la formule générale (II). (Dans les formules, R1 représente un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe aryle ou similaire ; R2 représente un groupe alkyle ou similaire ; R3 et R4 représentent chacun un groupe alkyle ou similaire ; R5 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou similaire ; et R6 représente un groupe alkyle ou un groupe cycloalkyle qui comprend au moins deux groupes hydroxyle ou plus, un groupe carboxyle ou similaire.) Un motif fin qui est formé par lithographie d'auto-assemblage en utilisant un procédé de graphoépitaxie avec utilisation d'un copolymère à blocs selon la présente invention présente une forme lamellaire à haute-définition et de qualité supérieure en comparaison à des motifs fins qui sont formés par une technique similaire en utilisant du PS-b-PMMA ou similaire comme copolymère à blocs.
(JA) 本発明のブロック共重合体は、下記一般式(I-1)~(I-3)のいずれかで表わされる繰り返し単位のブロックと、下記一般式(II)で表わされる繰り返し単位のブロックとを有する。ここで、Rは、アルキル基やシクロアルキル基、アリール基等、Rは、アルキル基等、R及びRはアルキル基等、Rは水素原子やアルキル基等、Rは、2個以上の水酸基、カルボキシル基等の少なくとも1種を有するアルキル基又はシクロアルキル基を表す。本発明のブロック共重合体を用いて、グラフェオエピタキシー法を用いた自己組織化リソグラフィーによって形成された微細パターンは、ブロック共重合体としてPS-b-PMMA等を用いて同様の手法で形成された微細パターンに比べて、高精細かつ高品位なラメラ形状であった。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)