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1. (WO2016039209) 表示装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/039209    国際出願番号:    PCT/JP2015/074696
国際公開日: 17.03.2016 国際出願日: 31.08.2015
IPC:
G02B 26/02 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), G09F 9/37 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
発明者: NISHIKI Hirohiko; .
OKABE Tohru;
代理人: KAWAKAMI Keiko; (JP)
優先権情報:
2014-185726 11.09.2014 JP
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 表示装置及びその製造方法
要約: front page image
(EN)A display device is equipped with: a translucent substrate (100); shutter parts (S) that are provided on the translucent substrate (100) in correspondence with a plurality of pixels (P), and that, by mean of a shutter (3), control the amount of light passing through a light-transmitting region (A); a light-blocking film (201) provided on the translucent substrate (100); first transparent insulation films (202-203) covering the light-blocking film (201) and provided on the translucent substrate (100); and a plurality of thin-film transistors (TFTs) (300) provided on the first transparent insulation films (202-203), and including a portion of wiring (M1) formed with a conductive film. The light-blocking film (201) is arranged such that, when viewed from the direction perpendicular to the translucent substrate (100), the light-blocking film overlaps at least a plurality of the TFTs (300).
(FR)L'invention concerne un dispositif d'affichage qui comprend : un substrat translucide (100); des parties d'obturateur (S) qui sont situées sur le substrat translucide (100) en correspondance avec une pluralité de pixels (P) et qui, au moyen d'un obturateur (3), commandent la quantité de lumière passant à travers une région de transmission de lumière (A); un film de blocage de lumière (201) situé sur le substrat translucide (100); des premiers films d'isolation transparents (202-203) recouvrant le film de blocage de lumière (201) et situés sur le substrat translucide (100); et une pluralité de transistors à film mince (TFT) (300) situés sur les premiers films d'isolation transparents (202-203), et comprenant une partie de câblage (M1) formée avec un film conducteur. Le film de blocage de lumière (201) est agencé de telle sorte que, lorsqu'il est vu depuis la direction perpendiculaire au substrat translucide (100), le film de blocage de lumière chevauche au moins une pluralité des TFT (300).
(JA)透光性基板(100)と、複数の画素Pの各々に対応して透光性基板(100)上に設けられ、シャッター(3)によって光透過領域Aを透過する光量を制御するシャッター部(S)と、透光性基板(100)上に設けられた遮光膜(201)と、遮光膜(201)覆って、前記透光性基板(100)上に設けられた第1の透明絶縁膜(202~203)と、第1の透明絶縁膜(202~203)上に設けられ、導電膜で形成された配線(M1)の一部を含む、複数の薄膜トランジスタ(300)と、を備える。遮光膜(201)は、透光性基板(100)と垂直な方向から見て、少なくとも複数のTFT(300)と重なるように配置されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)