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1. (WO2016039041) オーバーレイ計測方法、装置、および表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/039041    国際出願番号:    PCT/JP2015/071953
国際公開日: 17.03.2016 国際出願日: 03.08.2015
IPC:
G01B 15/00 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), G06T 1/00 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: TAKAGI Yuji; (JP).
FUKUNAGA Fumihiko; (JP).
GOTO Yasunori; (JP)
代理人: SEIRYO I.P.C.; 24-2, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
優先権情報:
2014-185445 11.09.2014 JP
発明の名称: (EN) OVERLAY MEASUREMENT METHOD, DEVICE AND DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE SUPERPOSITION, DISPOSITIF ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) オーバーレイ計測方法、装置、および表示装置
要約: front page image
(EN)To address the problem in which when measuring the overlay of patterns formed on upper and lower layers of a semiconductor pattern by comparing a reference image and measurement image obtained through imaging by an SEM, the contrast of the SEM image of the pattern of the lower layer is low relative to that of the SEM image of the pattern of the upper layer and alignment state verification is difficult even if the reference image and measurement image are superposed on the basis of measurement results, the present invention determines the amount of positional displacement of patterns of an object of overlay measurement from a reference image and measurement image obtained through imaging by an SEM, carries out differential processing on the reference image and measurement image, aligns the reference image and measurement image that have been subjected to differential processing on the basis of the positional displacement amount determined previously, expresses the gradation values of the aligned differential reference image and differential measurement image as brightnesses of colors that differ for each image, superposes the images, and displays the superposed images along with the determined positional displacement amount.
(FR)L'invention vise à résoudre le problème résidant dans le fait que, lors de la mesure de la superposition de motifs formés sur des couches supérieure et inférieure d'un motif semi-conducteur en comparant une image de référence et une image de mesure obtenue par imagerie à l'aide d'un microscope électronique à balayage, le contraste de l'image du motif de la couche inférieure obtenue à l'aide du microscope électronique à balayage est faible par rapport à celui de l'image du motif de la couche supérieure obtenue à l'aide du microscope électronique à balayage et la vérification de l'état d'alignement est difficile, même si l'image de référence et l'image de mesure sont superposées en fonction de résultats de mesure. La présente invention détermine le degré de décalage de position de motifs d'un objet de mesure de superposition à partir d'une image de référence et d'une image de mesure obtenue par imagerie à l'aide d'un microscope électronique à balayage, effectue un traitement différentiel sur l'image de référence et l'image de mesure, aligne l'image de référence et l'image de mesure qui ont été soumises au traitement différentiel en fonction du degré de décalage de position précédemment déterminé, exprime les valeurs de gradation de l'image de référence différentielle et de l'image de mesure différentielle alignées en tant que luminosités de couleurs qui diffèrent pour chaque image, superpose les images, et affiche les images superposées avec le degré de décalage de position déterminé.
(JA)SEMで撮像して得た基準画像と計測画像とを比較して、半導体パターンの上下層に形成されたパターンのオーバーレイを計測する場合、上層のパターンのSEM画像のコントラストに対し、下層のパターンのSEM画像のコントラストが相対的に低く、計測結果に基づいて基準画像と計測画像とを重畳しても位置合わせ状態の確認が困難でるという課題を解決するために、本発明では、SEMで撮像し得られた基準画像と計測画像とから、オーバーレイ計測対象のパターンの位置ずれ量を求め、基準画像と計測画像を微分処理し、微分処理した基準画像と計測画像とを先に求めた位置ずれ量に基づいて位置合わせを行い、位置合わせを行った微分基準画像と微分計測画像との濃淡値を、各画像で異なる色の明度として彩色して重畳し、求めた位置ずれ量と共に表示するようにした。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)