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1. (WO2016038984) 物理量センサ
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/038984    国際出願番号:    PCT/JP2015/068606
国際公開日: 17.03.2016 国際出願日: 29.06.2015
IPC:
G01P 21/00 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), G01P 15/08 (2006.01), G01P 15/125 (2006.01), H01L 29/84 (2006.01)
出願人: HITACHI AUTOMOTIVE SYSTEMS, LTD. [JP/JP]; 2520, Takaba, Hitachinaka-shi, Ibaraki 3128503 (JP)
発明者: KANAMARU Masatoshi; (JP).
HAYASHI Masahide; (JP).
YURA Masashi; (JP).
JEONG Heewon; (JP)
代理人: TODA Yuji; (JP)
優先権情報:
2014-182853 09.09.2014 JP
発明の名称: (EN) PHYSICAL QUANTITY SENSOR
(FR) DÉTECTEUR DE GRANDEUR PHYSIQUE
(JA) 物理量センサ
要約: front page image
(EN)For a small sensor produced through a MEMS process, when an electrode pad, wiring, or a shield layer is formed in a final step, it is difficult to nondestructively investigate whether a structure for sensing a physical quantity has been processed satisfactorily. In the present invention, in a physical quantity sensor formed from an MEMS structure, in a structure in which a surface electrode having through wiring is formed on the surface of an electrode substrate and the periphery thereof is insulated, forming a shield layer comprising a metallic material on the surface of the electrode substrate in a planar view and providing a space for internal observation inside the shield layer makes it possible to check for internal defects.
(FR)Selon l'invention, pour un petit capteur produit par l'intermédiaire d'un processus MEMS, lorsque un plot d'électrode, un câblage, ou une couche de blindage est formé(e) dans une étape finale, il est difficile d'examiner de façon non destructive si une structure destinée à détecter une quantité physique a été traitée de manière satisfaisante. Dans la présente invention, dans un capteur de quantité physique formé à partir d'une structure MEMS, dans une structure dans laquelle une électrode de surface ayant un câblage traversant est formée sur la surface d'un substrat d'électrode et la périphérie de ce dernier est isolée, la formation d'une couche de blindage comprenant un matériau métallique sur la surface du substrat d'électrode dans une vue en plan et la fourniture d'un espace pour une observation interne à l'intérieur de la couche de blindage permettent de vérifier les défauts internes.
(JA)MEMSプロセスによって製造した小型のセンサでは、最終工程の電極パッドもしくは配線、シールド層を形成すると物理量をセンシングする構造体が良好に加工されているか非破壊で調査することが困難である。 MEMS構造体によって形成された物量量センサにおいて、電極基板表面に貫通配線の表面電極が形成され、かつ、その周囲は絶縁された構造において、平面視で電極基板表面に形成された金属材料からなるシールド層を形成し、そのシールド層内部に内部観察用の空間を設けた構造を適用する構造。これにより、内部不良を確認できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)