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1. (WO2016038747) 磁気ディスク用基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/038747    国際出願番号:    PCT/JP2014/074329
国際公開日: 17.03.2016 国際出願日: 12.09.2014
IPC:
G11B 5/84 (2006.01)
出願人: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP)
発明者: TAWARA, Yoshihiro; (JP)
代理人: GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT POUR DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法
要約: front page image
(EN)This method for manufacturing a substrate for a magnetic disk includes a polishing process, wherein a substrate is sandwiched by a pair of polishing pads, a slurry containing abrasive grains made of a dielectric material is supplied between the polishing pads and the substrate, and the polishing pads and the substrate are caused to slide relative to each other, thereby polishing both main surfaces of the substrate. Prior to the polishing process, the abrasive grains are subjected to a removal process, wherein the slurry is passed through an alternating-current electric field having a non-uniform electric field in order to cause electrophoresis of the abrasive grains in accordance with the size of the abrasive grains, thereby removing abrasive grains having a larger grain size than the average grain size of the abrasive grains from the slurry.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication de substrat pour disque magnétique qui comprend un procédé de polissage, un substrat étant pris en sandwich par une paire de tampons de polissage, une suspension contenant des grains abrasifs faits d'une matière diélectrique étant alimentée entre les tampons de polissage et le substrat, et les tampons de polissage et le substrat étant amenés à coulisser l'un uns par rapport à l'autre, polissant ainsi les deux surfaces principales du substrat. Avant le procédé de polissage, les grains abrasifs sont soumis à un procédé d'élimination, la suspension passant à travers un champ électrique de courant alternatif ayant un champ électrique non uniforme pour produire une électrophorèse des grains abrasifs selon la dimension des grains abrasifs, éliminant ainsi des grains abrasifs ayant une dimension de grain plus grande que la dimension de grain moyenne des grains abrasifs provenant de la suspension.
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法は、一対の研磨パッドで基板を挟み、前記研磨パッドと前記基板の間に誘電体材料の研磨砥粒を含むスラリーを供給して、前記研磨パッドと前記基板を相対的に摺動させることにより、前記基板の両主表面を研磨する研磨処理を含む。前記研磨処理の前に、前記スラリーを不均一な電界を有する交流電場中に通過させて、研磨砥粒の大きさに応じた誘電泳動を前記研磨砥粒に生じさせることにより、前記研磨砥粒の平均粒径より大きな粒径の研磨砥粒を前記スラリーから除去する除去処理を前記研磨砥粒に施す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)