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1. (WO2016038745) 磁気ディスク用基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/038745    国際出願番号:    PCT/JP2014/074325
国際公開日: 17.03.2016 国際出願日: 12.09.2014
IPC:
G11B 5/84 (2006.01)
出願人: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 6-10-1 Nishi-Shinjuku,Shinjuku-ku,Tokyo 1608347 (JP)
発明者: TAWARA, Yoshihiro; (JP)
代理人: GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT POUR DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法
要約: front page image
(EN)This method for manufacturing a substrate for a magnetic disk includes a polishing process, wherein a substrate is sandwiched by a pair of polishing pads, a slurry containing abrasive grains is supplied between the polishing pads and the substrate, and the polishing pads and the substrate are caused to slide relative to each other, thereby polishing both main surfaces of the substrate. The abrasive grains have a surface potential. Prior to the polishing process, the abrasive grains are subjected to a removal process, wherein the slurry is passed through an electric field in order to cause electrophoresis of the abrasive grains in accordance with the surface potential of the abrasive grains, thereby removing abrasive grains having a larger grain size than the average grain size of the abrasive grains from the slurry.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat destiné à un disque magnétique, comprenant un processus de polissage au cours duquel un substrat est pris en sandwich par une paire de tampons de polissage, une bouillie contenant des grains abrasifs est amenée entre les tampons de polissage et le substrat, et il est fait en sorte que les tampons de polissage et le substrat coulissent l'un par rapport à l'autre, polissant ainsi les deux surfaces principales du substrat. Les grains abrasifs présentent un potentiel de surface. Préalablement au processus de polissage, les grains abrasifs sont soumis à un processus d'élimination au cours duquel la bouillie est passée à travers un champ électrique afin de provoquer une électrophorèse des grains abrasifs suivant le potentiel de surface des grains abrasifs, éliminant ainsi de la bouillie les grains abrasifs présentant une taille de grain supérieure à la taille de grain moyenne des grains abrasifs.
(JA) 磁気ディスク用基板の製造方法は、一対の研磨パッドで基板を挟み、前記研磨パッドと前記基板の間に研磨砥粒を含むスラリーを供給して、前記研磨パッドと前記基板を相対的に摺動させることにより、前記基板の両主表面を研磨する研磨処理を含む。前記研磨砥粒は、表面に電位を有する。前記研磨処理の前に、前記スラリーを電場中に通過させて、前記研磨砥粒の表面電位に応じた電気泳動を前記研磨砥粒に生じさせることにより、前記研磨砥粒の平均粒径より大きな粒径の研磨砥粒を前記スラリーから除去する除去処理を前記研磨砥粒に施す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)