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1. (WO2016035785) 導電膜および導電パターンの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/035785    国際出願番号:    PCT/JP2015/074832
国際公開日: 10.03.2016 国際出願日: 01.09.2015
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01), H01B 1/22 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01)
出願人: TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION [JP/JP]; 3, Kagurazaka 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628601 (JP).
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: ARIMITSU Koji; (JP).
WAKABAYASHI Makoto; (JP)
代理人: KOJIMA Takashi; (JP)
優先権情報:
2014-178018 02.09.2014 JP
発明の名称: (EN) ELECTROCONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROCONDUCTIVE PATTERN
(FR) FILM CONDUCTEUR D'ÉLECTRICITÉ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 導電膜および導電パターンの製造方法
要約: front page image
(EN) A method for manufacturing an electroconductive pattern 40, provided with: a lamination step for laminating an acid generation film 10 containing an acid proliferation agent and a photoacid generator on a polymer film 20 containing an electroconductive polymer formed on a substrate 21; a masking step for masking the top of the acid generation film 10; a light irradiation step for irradiating the laminate from the acid-generation-film 10 side; a doping step for doping the electroconductive polymer with an acid generated and proliferated in the acid generation film 10 by the light irradiation; and a releasing step for releasing the acid generation film 10 from the polymer film 20. This method makes it possible to provide an electroconductive film and a method for manufacturing an electroconductive pattern in which photoacid generation and acid proliferation effects are utilized.
(FR) Cette invention concerne un procédé de fabrication d'un tracé conducteur (40), comprenant : une étape de stratification consistant à stratifier un film générateur d'acide (10) contenant un agent de prolifération d'acide et un générateur de photoacide sur un film polymère (20) contenant un polymère conducteur formé sur un substrat (21) ; une étape de masquage consistant à masquer la partie supérieure du film générateur d'acide ; une étape d'irradiation de lumière consistant à irradier le stratifié à partir du côté film générateur d'acide (10) ; une étape de dopage consistant à doper le polymère conducteur avec un acide généré et amené à proliférer dans le film générateur d'acide (10) par l'irradiation de lumière ; et une étape de libération consistant à libérer le film générateur d'acide (10) à partir du film polymère (20). Ledit procédé permet de former un film conducteur d'électricité. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication d'un tracé conducteur mettant en œuvre des effets de génération de photoacide et de prolifération d'acide.
(JA) 基板21上に形成された導電性高分子を含む高分子膜20上に、酸増殖剤、および光酸発生剤を含む酸発生膜10を積層して積層体を得る積層工程と、酸発生膜10上をマスキングするマスキング工程と、積層体の酸発生膜10側から光照射する光照射工程と、光照射により酸発生膜10中で発生・増殖した酸によって導電性高分子をドーピングするドーピング工程と、酸発生膜10を高分子膜20から剥離する剥離工程と、を備える導電パターン40の製造方法。この方法により、光酸発生および酸増殖作用を利用した、導電膜および導電パターンの製造方法を提供できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)