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1. (WO2016035432) 光電変換素子、光電変換素子の配線基板、光電変換素子の製造方法、および光電変換構造体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/035432    国際出願番号:    PCT/JP2015/068659
国際公開日: 10.03.2016 国際出願日: 29.06.2015
IPC:
H01L 51/44 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP)
発明者: GOTANDA, Takeshi; (JP).
MORI, Shigehiko; (JP).
SAITO, Mitsunaga; (JP).
OOOKA, Haruhi; (JP).
TODORI, Kenji; (JP).
NAKAO, Hideyuki; (JP).
TAKAYAMA, Satoshi; (JP)
代理人: HYUGAJI, Masahiko; (JP)
優先権情報:
2014-181652 05.09.2014 JP
発明の名称: (EN) PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, WIRING SUBSTRATE FOR PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, AND PHOTOELECTRIC CONVERSION STRUCTURE
(FR) ÉLÉMENT DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE, SUBSTRAT DE CÂBLAGE POUR ÉLÉMENT DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE L'ÉLÉMENT DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE ET STRUCTURE DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 光電変換素子、光電変換素子の配線基板、光電変換素子の製造方法、および光電変換構造体
要約: front page image
(EN)According to an embodiment, provided is a photoelectric conversion element, comprising first wiring, second wiring, a photoelectric conversion layer, and an insulation layer. The second wiring is provided separate from the first wiring. The photoelectric conversion layer is provided between the first wiring and the second wiring. The insulation layer is provided alongside the first wiring. A surface formed by the first wiring and the insulation layer and in contact with the photoelectric conversion layer is substantially flat.
(FR)Un mode de réalisation de l'invention concerne un élément de conversion photoélectrique, comprenant un premier câblage, un deuxième câblage, une couche de conversion photoélectrique et une couche d'isolation. Le deuxième câblage est disposé de façon à être séparé du premier câblage. La couche de conversion photoélectrique est disposée entre le premier câblage et le deuxième câblage. La couche d'isolation est disposée le long du premier câblage. Une surface formée par le premier câblage et la couche d'isolation, en contact avec la couche de conversion photoélectrique, est sensiblement plate.
(JA)実施形態によれば、第1の配線と、第2の配線と、光電変換層と、絶縁層と、を備えた光電変換素子が提供される。前記第2の配線は、前記第1の配線と離隔して設けられる。前記光電変換層は、前記第1の配線と前記第2の配線との間に設けられる。前記絶縁層は、前記第1の配線と並んで設けられる。前記第1の配線および前記絶縁層により形成される面であって前記光電変換層と接する面は、実質的に平坦である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)