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1. (WO2016035415) スパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/035415    国際出願番号:    PCT/JP2015/067226
国際公開日: 10.03.2016 国際出願日: 16.06.2015
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C22C 5/04 (2006.01), C22C 19/07 (2006.01), C22C 32/00 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
出願人: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP)
発明者: ARAKAWA Atsutoshi; (JP).
MORISHITA Yuto; (JP)
代理人: OGOSHI Isamu; (JP)
優先権情報:
2014-179783 04.09.2014 JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION
(JA) スパッタリングターゲット
要約: front page image
(EN)Provided is a sputtering target containing: an alloy including Co or Fe as a main component; and an oxide including Mn and B. The sputtering target is characterized by having the composition, which satisfies the conditions of 9 at% ≦ Mn+B+O ≦ 56 at%, B ≦ Mn (at%), and Mn+B ≦ O (at%). This sputtering target is capable of suppressing abnormal discharge which is caused by a non-magnetic material and results in the formation of particles during sputtering.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation contenant : un alliage comprenant du Co ou du Fe comme composant principal; et un oxyde comprenant du Mn et du B. La cible de pulvérisation est caractérisée en ce qu'elle a la composition, qui satisfait les conditions de 9% at. ≦ Mn + B + O ≦ 56% at., B ≦ Mn (% at.), et Mn + B ≦ O (% at.) Cette cible de pulvérisation est capable de supprimer une décharge anormale qui est provoquée par un matériau non magnétique et entraîne la formation de particules pendant la pulvérisation.
(JA) Co又はFeを主成分とする合金と、Mn及びBを含む酸化物を含有するスパッタリングターゲットであって、前記スパッタリングターゲットの組成において、9at%≦Mn+B+O≦56at%、B≦Mn(at%)、Mn+B≦O(at%)、の条件を満たすことを特徴とするスパッタリングターゲットであって、スパッタリング時のパーティクル発生の原因となる非磁性材料に起因する異常放電を抑制することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)