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1. (WO2016031801) 積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/031801    国際出願番号:    PCT/JP2015/073800
国際公開日: 03.03.2016 国際出願日: 25.08.2015
IPC:
G06F 3/041 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), G06F 3/044 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01)
出願人: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD [JP/JP]; 11-3, Simbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP)
発明者: OKAMI, Hideharu; (JP)
代理人: UEDA, Shozo; (JP)
優先権情報:
2014-172604 27.08.2014 JP
発明の名称: (EN) LAMINATE FILM, ELECTRODE SUBSTRATE FILM, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) FILM STRATIFIÉ, FILM DE SUBSTRAT D’ÉLECTRODE ET LEUR PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide an electrode substrate film in which a circuit pattern comprising a thin metallic line is hardly visible even under high-intensity illumination, and a laminate film that is used in the electrode substrate film. [Solution] An electrode substrate film having a transparent substrate 52 and a laminated thin line made of metal, characterized in that: the laminated thin line is 20 μm or less in line width and has a first metal absorption layer 51 having a line thickness of 20-30 nm and a second metal layer 50, as counted from the transparent substrate side; and the optical constants of the metal absorption layer in a visible wavelength region (400-780 nm) are such that the refractive index and the extinction coefficient at a wavelength of 400 nm are 2.0-2.2 and 1.8-2.1, respectively, the refractive index and the extinction coefficient at a wavelength of 500 nm are 2.4-2.7 and 1.9-2.3, respectively, the refractive index and the extinction coefficient at a wavelength of 600 nm are 2.8-3.2 and 1.9-2.5, respectively, the refractive index and the extinction coefficient at a wavelength of 700 nm are 3.2-3.6 and 1.7-2.5, respectively, the refractive index and extinction coefficient at a wavelength of 780 nm are 3.5-3.8 and 1.5-2.4, respectively, the average reflectance in the visible wavelength region due to the interface reflection between the transparent substrate and metal absorption layer is 20% or less, and the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance in the visible wavelength region is 10% or less.
(FR)L’invention a pour but de fournir un film de substrat d’électrode dans lequel un motif de circuit comprenant une ligne métallique mince est à peine visible, même sous un éclairage à haute intensité, et un film stratifié qui est utilisé dans le film de substrat d’électrode. Pour atteindre ce but, l’invention concerne un film de substrat d’électrode qui possède un substrat transparent 52 et une ligne mince stratifiée, faite en métal, et qui est caractérisé en ce que : la largeur de la ligne mince stratifiée est de 20 µm ou moins, ladite ligne possédant une première couche d’absorption métallique 51 ayant une épaisseur de ligne de 20 à 30 nm et une seconde couche métallique 50, telles que comptées à partir du côté de substrat transparent ; les constantes optiques de la couche d’absorption métallique dans une région de longueur d’onde visible (400 à 780 nm) sont telles que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction à une longueur d’onde de 400 nm sont de 2,0 à 2,2 et de 1,8 à 2,1, respectivement, l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction à une longueur d’onde de 500 nm sont de 2,4 à 2,7 et de 1,9 à 2,3, respectivement, l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction à une longueur d’onde de 600 nm sont de 2,8 à 3,2 et de 1,9 à 2,5, respectivement, l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction à une longueur d’onde de 700 nm sont de 3,2 à 3,6 et de 1,7 à 2,5, respectivement, l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction à une longueur d’onde de 780 nm sont de 3,5 à 3,8 et de 1,5 à 2,4, respectivement, le facteur de réflexion moyen dans la région de longueur d’onde visible, en raison de la réflexion d’interface entre le substrat transparent et la couche d’absorption métallique, est de 20 % ou moins, et la différence entre le facteur de transmission maximal et le facteur de transmission minimal dans la région de longueur d’onde visible est de 10 % ou moins.
(JA)【課題】高輝度照明下においても金属製細線から成る回路パターンが視認され難い電極基板フィルムとこれに用いる積層体フィルムを提供する。 【解決手段】透明基板52と金属製の積層細線を有する電極基板フィルムは、積層細線が、線幅20μm以下で透明基板側から数えて第1層目の膜厚が20nm以上30nm以下である金属吸収層51と第2層目の金属層50を有し、可視波長領域(400~780nm)における金属吸収層の光学定数が、波長400nmの屈折率が2.0~2.2、消衰係数が1.8~2.1、波長500nmの屈折率が2.4~2.7、消衰係数が1.9~2.3、波長600nmの屈折率が2.8~3.2、消衰係数が1.9~2.5、波長700nmの屈折率が3.2~3.6、消衰係数が1.7~2.5、波長780nmの屈折率が3.5~3.8、消衰係数が1.5~2.4で、透明基板と金属吸収層の界面反射による可視波長領域の平均反射率が20%以下、可視波長領域の最高透過率と最低透過率の差が10%以下であることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)