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1. (WO2016031780) 擦傷防止膜付き基体およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/031780    国際出願番号:    PCT/JP2015/073754
国際公開日: 03.03.2016 国際出願日: 24.08.2015
IPC:
C03C 17/25 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
発明者: HIRAKOSO, Hideyuki; (JP).
YONEDA, Takashige; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; (JP)
優先権情報:
2014-173140 27.08.2014 JP
2014-243218 01.12.2014 JP
発明の名称: (EN) SCRATCH PREVENTION FILM-EQUIPPED SUBSTRATE, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) SUBSTRAT MUNI D'UN FILM DE PRÉVENTION DES RAYURES, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 擦傷防止膜付き基体およびその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are: a scratch prevention film-equipped substrate which is low cost, and which achieves both excellent transparency and scratch resistance; and a production method therefor. The production method for the scratch prevention film-equipped substrate (1) is provided with: a step (I) in which a coating liquid including a particle component and a binder precursor is applied to a substrate (10); and a step (II) in which the substrate (10) having the coating liquid applied thereto is baked to form a scratch prevention film (12) on the substrate (10). The particle component comprises particles having an average primary particle size of at least 1 nm. In the particle component, the proportion of particles (A) which have a primary particle size of at least 30 nm, and a Mohs hardness of at least 8 is at least 60 mass%. The difference between the refractive index of a mixture of particles in the particle component which have a primary particle size of at least 30 nm, and the refractive index of a baked product obtained by baking a mixture of the binder precursor and particles (B) in the particle component which have a primary particle size of less than 30 nm, is not more than 0.4.
(FR)L'invention concerne : un substrat muni d'un film de prévention des rayures de faible coût, et qui permet d'obtenir à la fois une excellente transparence et une excellente résistance aux rayures ; et un procédé de production associé. Le procédé de production du substrat muni d'un film de prévention des rayures (1) comporte : une étape (I) dans laquelle un liquide de revêtement comprenant un constituant particulaire et un précurseur de liant est appliqué à un substrat (10) ; et une étape (II) dans laquelle le substrat (10) ayant le liquide de revêtement appliqué sur celui-ci est cuit pour former un film de prévention des rayures (12) sur le substrat (10). Le constituant particulaire comprend des particules ayant une taille moyenne de particules primaires d'au moins 1 nm. Dans le constituant particulaire, la proportion de particules (A) qui présentent une taille de particules primaires d'au moins 30 nm, et une dureté Mohs d'au moins 8 est d'au moins 60 % en masse. La différence entre l'indice de réfraction d'un mélange de particules dans le constituant particulaire qui ont une taille de particules primaires d'au moins 30 nm, et l'indice de réfraction d'un produit cuit obtenu par cuisson d'un mélange du précurseur de liant et de particules (B) dans le constituant particulaire qui ont une taille de particules primaires inférieure à 30 nm, n'est pas supérieure à 0,4.
(JA) 優れた透明性と耐擦傷性を両立でき、かつ低コストである擦傷防止膜付き基体、およびその製造方法の提供。 粒子分およびバインダの前駆体を含む塗布液を基体10上に塗布する工程(I)と、前記塗布液を塗布した基体10を焼成して基体10上に擦傷防止膜12を形成する工程(II)とを有し、前記粒子分は平均一次粒子径が1nm以上の粒子からなり、前記粒子分中の一次粒子径が30nm以上でモース硬度が8以上の粒子(A)の割合が60質量%以上であり、前記粒子分中の一次粒子径が30nm以上である粒子の混合物の屈折率と、前記粒子分中の一次粒子径が30nm未満である粒子(B)および前記バインダの前駆体の混合物を焼成した焼成物の屈折率との差が0.4以下である、擦傷防止膜付き基体1の製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)