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1. (WO2016031614) 表示パネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/031614    国際出願番号:    PCT/JP2015/073071
国際公開日: 03.03.2016 国際出願日: 18.08.2015
IPC:
B08B 7/00 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
発明者: YAMAGUCHI Katsuhiro;
代理人: AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008 (JP)
優先権情報:
2014-170436 25.08.2014 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE
(JA) 表示パネルの製造方法
要約: front page image
(EN)A method for manufacturing a liquid crystal panel 11 includes: a wet cleaning step in which outer surfaces 11a1 and 11b1 of a CF substrate 11a and an array substrate 11b are cleaned by a wet cleaning method; a plasma cleaning step in which the outer surfaces 11a1 and 11b1 of the CF substrate 11a and array substrate 11b are cleaned by being irradiated with plasma, the plasma cleaning step being performed at least one of before and after the wet cleaning step; and a polarizing plate bonding step in which polarizing plates 11f and 11g are bonded to the outer surfaces 11a1 and 11b1 of the CF substrate 11a and array substrate 11b after the wet cleaning step and the plasma cleaning step have been completed.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un panneau à cristaux liquides (11) comprenant : une étape de nettoyage par voie humide dans laquelle les surfaces extérieures (11a1 et 11b1) d'un substrat CF (11a) et d'un substrat de réseau (11b) sont nettoyées par un procédé de nettoyage par voie humide; une étape de nettoyage par plasma dans laquelle les surfaces extérieures (11a1 et 11b1) du substrat CF (11a) et du substrat de réseau (11b) sont nettoyées par exposition à un plasma, l'étape de nettoyage par plasma étant réalisée avant et/ou après l'étape de nettoyage par voie humide; et une étape de liaison de lames polarisantes dans laquelle des lames polarisantes (11f) et (11g) sont liées aux surfaces extérieures (11a1 et 11b1) du substrat CF (11a) et au substrat de réseau (11b) une fois que les étapes de nettoyage par voie humide et de nettoyage par plasma sont terminées.
(JA)液晶パネル11の製造方法は、CF基板11a及びアレイ基板11bの外面11a1,11b1を湿式洗浄する湿式洗浄工程と、湿式洗浄工程の前と後との少なくともいずれか一方にて行われ、CF基板11a及びアレイ基板11bの外面11a1,11b1にプラズマを照射することで同外面11a1,11b1を洗浄するプラズマ洗浄工程と、湿式洗浄工程及びプラズマ洗浄工程を終えた後に、CF基板11a及びアレイ基板11bの外面11a1,11b1に偏光板11f,11gを貼り付ける偏光板貼り付け工程と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)