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1. (WO2016031406) 化合物、組成物、膜、光学機器
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/031406    国際出願番号:    PCT/JP2015/069989
国際公開日: 03.03.2016 国際出願日: 13.07.2015
IPC:
C09K 3/00 (2006.01), C07C 323/52 (2006.01), C08F 20/38 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: HITOMI Seiichi; (JP).
TAKAHASHI Hidenori; (JP).
YOSHII Akiko; (JP).
IDEI Hiroaki; (JP).
MURAKAMI Yousuke; (JP).
KANEKO Yushi; (JP).
TAGUCHI Yoshinori; (JP)
代理人: WATANABE Mochitoshi; (JP)
優先権情報:
2014-173141 27.08.2014 JP
2015-089384 24.04.2015 JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, COMPOSITION, FILM AND OPTICAL DEVICE
(FR) COMPOSÉ, COMPOSITION, FILM ET DISPOSITIF OPTIQUE
(JA) 化合物、組成物、膜、光学機器
要約: front page image
(EN)The present invention provides: a compound which enables the formation of a film having a high refractive index and also having excellent surface flatness; a composition; a film; and an optical device. The composition according to the present invention contains a compound represented by general formula (1). In general formula (1), A represents a linking group having a valency of (m + n); L1 and L2 independently represent a single bond or a bivalent linking group; X represents a residue produced by removing one hydrogen atom from a compound represented by general formula (2); Y represents a monovalent organic group; m represents an integer of 2 or greater; and n represents an integer of 0 or greater.
(FR)Cette invention concerne : un composé qui permet la formation d'un film ayant un indice de réfraction élevé et ayant également une excellente planéité de surface ; une composition ; un film ; et un dispositif optique. La composition selon l'invention contient un composé représenté par la formule générale (1). Dans la formule générale (1), A représente un groupe de liaison ayant une valence de (m +n) ; L1 et L2 représentent indépendamment une liaison simple ou un groupe de liaison bivalent ; X représente un résidu obtenu par élimination d'un atome d'hydrogène d'un composé représenté par la formule générale (2) ; Y représente un groupe organique monovalent ; m représente un nombre entier de 2 ou plus ; et n représente un nombre entier de 0 ou plus.
(JA) 本発明は、高い屈折率を示すと共に、表面平坦性に優れる膜を形成しえる化合物、組成物、膜、および、光学機器を提供する。本発明の組成物は、一般式(1)で表される化合物を含む。 一般式(1)中、Aは(m+n)価の連結基を表す。LおよびLは、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。Xは、一般式(2)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す。Yは、1価の有機基を表す。mは2以上の整数を表し、nは0以上の整数を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)