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1. (WO2016031138) 膜厚モニタおよび膜厚測定方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2016/031138    国際出願番号:    PCT/JP2015/003800
国際公開日: 03.03.2016 国際出願日: 29.07.2015
IPC:
C23C 14/52 (2006.01), G01B 7/06 (2006.01), G01B 17/02 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
発明者: ITOU, Atsushi; (JP)
代理人: OMORI, Junichi; (JP)
優先権情報:
2014-171205 26.08.2014 JP
発明の名称: (EN) FILM-THICKNESS MONITOR AND FILM-THICKNESS DETERMINATION METHOD
(FR) MONITEUR D'ÉPAISSEUR DE FILM ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'ÉPAISSEUR DE FILM
(JA) 膜厚モニタおよび膜厚測定方法
要約: front page image
(EN)A film-thickness monitor and a film-thickness determination method are provided with which the thickness of a relatively hard film, e.g., a metal film, and the thickness of a relatively soft film, e.g., an organic film, can be determined with high accuracy. The film-thickness determination method is for determining the thickness of a vapor-deposited film on the basis of changes in the resonant frequency of a quartz crystal oscillator disposed in the film deposition device having a vapor deposition source, and comprises: conducting an electrical sweep around the resonant frequency of the quartz crystal oscillator to thereby acquire both half-value frequencies (F1, F2) (F1
(FR)La présente invention concerne un moniteur d'épaisseur de film et un procédé de détermination d'épaisseur de film grâce auxquels l'épaisseur d'un film relativement dur, par exemple un film métallique, et l'épaisseur d'un film relativement mou, par exemple un film organique, peut être déterminée avec une grande exactitude. Le procédé de détermination d'épaisseur de film a pour but de déterminer l'épaisseur d'un film déposé en phase vapeur sur la base de changements dans la fréquence de résonance d'un oscillateur à cristal de quartz disposé dans le dispositif de dépôt de film ayant une source de dépôt en phase vapeur, et il comprend les étapes consistant à : conduire un balayage électrique autour de la fréquence de résonance de l'oscillateur à cristal de quartz pour ainsi acquérir à la fois des fréquences de demi-valeur (F1, F2) (F1 < F2) qui donnent la moitié de la valeur maximale de conductance et un changement dans le temps, ∆Fw, de la demi-largeur au demi-maximum Fw (Fw = (F1-F2)/2) calculée à partir des fréquences de demi-valeur (F1, F2) ; calculer un changement de fréquence de résonance ∆Fs de l'oscillateur à cristal de quartz (∆Fs = fq - fc) à l'aide de l'équation (1) dans le cas où le changement dans le temps ∆Fw de la demi-largeur au demi-maximum déterminé est égal ou inférieur à une valeur donnée ; et calculer un changement de fréquence de résonance ∆Fs de l'oscillateur à cristal de quartz en utilisant l'équation (2) dans le cas où le changement dans le temps ∆Fw de la demi-largeur au demi-maximum déterminé dépasse la valeur donnée.
(JA) 金属膜等の比較的硬い膜の膜厚と有機膜等の比較的軟らかい膜の膜厚とをそれぞれ高精度に測定することが可能な膜厚モニタおよび膜厚測定方法を提供する。蒸着源を有する成膜装置に設置された水晶振動子の共振周波数変化に基づいて蒸着膜の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、前記水晶振動子の共振周波数付近を電気的に掃引することでコンダクタンスの最大値の1/2を与える半値周波数F1,F2(F1<F2)と、前記半値周波数F1,F2から算出される半値半幅Fw(Fw=(F1-F2)/2)の時間変化ΔFw を取得し、測定された前記半値半幅の時間変化ΔFw が所定値以下の場合は、前記水晶振動子の共振周波数変化ΔFs(ΔFs=fq-fc)を式(1)で算出し、測定された前記半値半幅の時間変化ΔFw が前記所定値を超える場合は、前記水晶振動子の共振周波数変化ΔFs を式(2)で算出する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)