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1. WO2016017387 - アルキレングリコールモノアルキルエーテルの分離回収方法、レジスト組成物処理廃液の再利用方法及びレジスト組成物処理液のリサイクル方法

公開番号 WO/2016/017387
公開日 04.02.2016
国際出願番号 PCT/JP2015/069667
国際出願日 08.07.2015
IPC
C07C 41/42 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
41エーテルの製造;「図」基,「図」基または「図」基をもつ化合物の製造
01エーテルの製造
34分離;精製;安定化;添加剤の使用
40物理的状態の変化によるもの,例.結晶化によるもの
42蒸留によるもの
B01D 3/00 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
3蒸留またはそれに関連する液体がガス状媒質と接触するプロセス,例.ストリッピング
C07C 41/44 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
41エーテルの製造;「図」基,「図」基または「図」基をもつ化合物の製造
01エーテルの製造
34分離;精製;安定化;添加剤の使用
44化学的変性をひきおこす処理によるもの
C07C 43/13 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
43エーテル;「図」基,「図」基または「図」基をもつ化合物
02エーテル
03すべてのエーテル基の酸素原子が非環式炭素原子に結合しているもの
04飽和エーテル
13水酸基またはO―金属基を含有するもの
G03F 7/42 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
42剥離又はそのための処理剤
CPC
B01D 3/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
3Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
C07C 41/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
41Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
01Preparation of ethers
34Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
40by change of physical state, e.g. by crystallisation
42by distillation
C07C 41/44
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
41Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
01Preparation of ethers
34Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
44by treatments giving rise to a chemical modification
C07C 43/13
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
43Ethers; Compounds having groups, groups or groups
02Ethers
03having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
04Saturated ethers
13containing hydroxy or O-metal groups
G03F 7/42
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
出願人
  • 昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP]/[JP]
発明者
  • 三河 泰広 MIKAWA, Yasuhiro
  • 緒方 不二麿 OGATA, Fujimaro
代理人
  • 青木 篤 AOKI, Atsushi
優先権情報
2014-15510430.07.2014JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR SEPARATING AND RECOVERING ALKYLENE GLYCOL MONOALKYL ETHER, METHOD FOR RECYCLING LIQUID WASTE FROM PROCESSING OF RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RECYCLING RESIST COMPOSITION PROCESSING LIQUID
(FR) PROCÉDÉ DE SÉPARATION ET DE RÉCUPÉRATION ALKYLÈNEGLYCOLMONOALKYLÉTHER, PROCÉDÉ DE RECYCLAGE DE DÉCHETS LIQUIDES PROVENANT DU TRAITEMENT D'UNE COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE RECYCLAGE D'UN LIQUIDE DE TRAITEMENT D'UNE COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) アルキレングリコールモノアルキルエーテルの分離回収方法、レジスト組成物処理廃液の再利用方法及びレジスト組成物処理液のリサイクル方法
要約
(EN)
The present invention provides a method for separating and recovering, with a high purity and at a high recovery rate, alkylene glycol monoalkyl ether from a solvent mixture containing: alkylene glycol monoalkyl ether; carboxylic acid ester corresponding thereto; and other solvents. By adding an alkali compound to a solvent mixture that contains: alkylene glycol monoalkyl ether (first solvent); alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid ester (second solvent) corresponding to the alkylene glycol monoalkyl ether (first solvent); and a solvent (third solvent) other than the alkylene glycol monoalkyl ether (first solvent) and the alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid ester (second solvent), the alkylene glycol monoalkyl ether carboxylic acid ester (second solvent) is saponified and converted into alkylene glycol monoalkyl ether (first solvent). Thereafter, the alkylene glycol monoalkyl ether (first solvent) is recovered by distillation.
(FR)
La présente invention concerne un procédé pour séparer et récupérer, à une pureté élevée et à un taux de récupération élevé, de l'alkylèneglycolmonoalkyléther à partir d'un mélange de solvants contenant : de l'alkylèneglycolmonoalkyléther ; un ester d'acide carboxylique correspondant à celui-ci ; et d'autres solvants. Par addition d'un composé alcalin à un mélange de solvants qui contient : de l'alkylèneglycolmonoalkyléther (premier solvant) ; de l'ester d'acide carboxylique de l'alkylèneglycolmonoalkyléther (deuxième solvant) correspondant à l'alkylèneglycolmonoalkyléther (premier solvant) ; et un solvant (troisième solvant) autre que l'alkylèneglycolmonoalkyléther (premier solvant) et que l'ester d'acide carboxylique de l'alkylèneglycolmonoalkyléther (deuxième solvant), l'ester carboxylique de l'alkylèneglycolmonoalkyléther (deuxième solvant) est saponifié et transformé en alkylèneglycolmonoalkyléther (premier solvant). Ensuite, l'alkylèneglycolmonoalkyléther (premier solvant) est récupéré par distillation.
(JA)
 アルキレングリコールモノアルキルエーテルとその対応するカルボン酸エステルを含有し、かつその他の溶剤を含む溶剤混合物から、アルキレングリコールモノアルキルエーテルを高純度かつ高収率で分離回収する方法を提供する。アルキレングリコールモノアルキルエーテル(第一の溶剤)と、アルキレングリコールモノアルキルエーテル(第一の溶剤)に対応するアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル(第二の溶剤)と、アルキレングリコールモノアルキルエーテル(第一の溶剤)及びアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル(第二の溶剤)とは異なる溶剤(第三の溶剤)とを含む溶剤混合物にアルカリ化合物を添加することによりアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル(第二の溶剤)をケン化してアルキレングリコールモノアルキルエーテル(第一の溶剤)に変換した後、蒸留によりアルキレングリコールモノアルキルエーテル(第一の溶剤)を回収する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報