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1. (WO2015147319) 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/147319 国際出願番号: PCT/JP2015/059871
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 30.03.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 11/00 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68
位置決め,方向決め,または整列のためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
白戸 章仁 SHIRATO, Akinori; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
2014-06743528.03.2014JP
発明の名称: (EN) MOBILE BODY APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, PRODUCTION METHOD FOR FLAT PANEL DISPLAY, PRODUCTION METHOD FOR DEVICE, AND DRIVE METHOD FOR MOBILE BODY
(FR) APPAREIL À CORPS MOBILE, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, ET PROCÉDÉ D’ENTRAÎNEMENT DE CORPS MOBILE
(JA) 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法
要約:
(EN) A substrate stage apparatus (20) provided with: a substrate holder (34) that can be moved in a plane including an X-axis and a Y-axis; a head unit (60) that can be moved synchronously with the substrate holder along the Y-axis; an encoder system for measuring substrate position, said system including a scale (52) disposed on the substrate holder, and heads (66x, 66y) disposed on the head unit, and acquiring the X-axis direction and the Y-axis direction position information of the substrate holder on the basis of the output of the heads; an encoder system for measuring head-unit position, said system acquiring the Y-axis direction position information of the head unit; and a position control system that controls the position of the substrate holder within the XY plane on the basis of the output of the encoder system for measuring substrate position and the encoder system for measuring head-unit position.
(FR) La présente invention concerne un appareil (20) à étage de substrat pourvu : d'un support (34) de substrat qui peut être déplacé dans un plan comprenant un axe X et un axe Y ; d'une unité de tête (60) qui peut être déplacée de manière synchrone avec le support de substrat le long de l'axe Y ; d'un système de codage permettant de mesurer une position de substrat, ledit système comprenant une échelle (52) disposée sur le support de substrat, et des têtes (66x, 66y) disposées sur l'unité de tête, et d'acquérir des informations de position de la direction d'axe X et de la direction d'axe Y du support de substrat sur la base de la sortie des têtes ; d'un système de codage permettant de mesurer une position d'unité de tête, ledit système acquérant les informations de position de direction d'axe Y de l'unité de tête ; et d'un système de commande de position qui commande la position du support de substrat à l'intérieur du plan XY sur la base de la sortie du système de codage permettant de mesurer une position de substrat et du système de codage permettant de mesurer une position d'unité de tête.
(JA)  基板ステージ装置(20)は、X軸及びY軸を含む平面内に沿って移動可能な基板ホルダ(34)と、Y軸方向に沿って基板ホルダに同期して移動可能なヘッドユニット(60)と、スケール(52)が基板ホルダに設けられるとともにヘッド(66x、66y)がヘッドユニットに設けられ、上記ヘッドの出力に基づいてX軸及びY軸方向に関する基板ホルダの位置情報を求める基板位置計測用エンコーダシステムと、ヘッドユニットのY軸方向に関する位置情報を求めるヘッドユニット位置計測用エンコーダシステムと、上記基板位置計測用エンコーダシステム及びヘッドユニット位置計測用エンコーダシステムの出力に基づいて、基板ホルダのXY平面内の位置制御を行う位置制御系と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20170108716JPWO2015147319CN106415397KR1020160136374IN201617036882JP2018107467
US20180321601KR1020180114234