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1. (WO2015147135) エピタキシャル成長用基板及びそれを用いた発光素子
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/147135 国際出願番号: PCT/JP2015/059313
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 26.03.2015
IPC:
H01L 33/22 (2010.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
33
光の放出に特に適用される少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する半導体装置;それらの装置またはその部品の製造,あるいは処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
02
半導体素子本体に特徴のあるもの
20
特定の形状を有するもの,例.湾曲または面取りされた基板
22
粗面,凹凸面,例.エピタキシャル層の界面にあるもの
出願人:
JXエネルギー株式会社 JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008162, JP
発明者:
關 隆史 SEKI, Takashi; JP
西村 涼 NISHIMURA, Suzushi; JP
鳥山 重隆 TORIYAMA, Shigetaka; JP
▲高▼橋 麻登香 TAKAHASHI, Madoka; JP
代理人:
川北 喜十郎 KAWAKITA, Kijuro; JP
優先権情報:
2014-06423526.03.2014JP
発明の名称: (EN) EPITAXIAL GROWTH SUBSTRATE AND LIGHT-EMITTING ELEMENT USING SAME
(FR) SUBSTRAT DE CROISSANCE ÉPITAXIALE ET ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT L'UTILISANT
(JA) エピタキシャル成長用基板及びそれを用いた発光素子
要約:
(EN) The epitaxial growth substrate comprises a relief pattern having multiple raised portions and recessed portions formed on a base material. Each of the raised portions has a long and narrow shape that extends in an undulating manner in a planar view. In the relief pattern, the extending directions, the curving directions, and the lengths of the multiple raised portions are non-uniform. The epitaxial growth substrate that can be produced efficiently and allows the light-emission efficiency of the light-emitting element to be improved, and the light-emitting element using this substrate, are provided.
(FR) L'invention concerne un substrat de croissance épitaxiale qui comprend un motif en relief ayant de multiples parties en relief et parties en creux formées sur un matériau de base. Chaque partie en relief présente une forme longue et étroite qui s'étend d'une façon ondulée dans une vue en plan. Dans le motif en relief, les directions d'extension, les directions de courbure, et les longueurs des multiples parties en relief ne sont pas uniformes. L'invention concerne un substrat de croissance épitaxiale qui peut être produit de manière efficace et permet d'améliorer l'efficacité d'émission de lumière de l'élément électroluminescent, et un élément électroluminescent utilisant ce substrat.
(JA)  エピタキシャル成長用基板は、基材上に多数の凸部と凹部を有する凹凸パターンが形成され、前記凸部は、平面視で、各々、うねりながら延在する細長い形状を有し、前記凹凸パターンにおいて、前記多数の凸部は延在方向、屈曲方向及び長さが不均一である。効率よく製造することが可能であり、発光素子の発光効率を向上させることができるエピタキシャル成長用基板、及びその基板を用いた発光素子が提供される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20170012169EP3125312JPWO2015147135CN106133926KR1020160138419