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1. (WO2015147127) プラズマ溶射装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/147127 国際出願番号: PCT/JP2015/059294
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 26.03.2015
IPC:
C23C 4/12 (2006.01) ,B05B 7/22 (2006.01) ,B05B 7/26 (2006.01) ,H05H 1/42 (2006.01) ,H05H 1/44 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
4
溶解被覆材料のスプレーによる被覆,例.火炎,プラズマまたは放電によるもの
12
スプレー方法に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
7
2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの(B05B3/00,B05B5/00が優先
16
噴霧される材料を加熱する手段を組み込んだもの
22
電気的なもの,例.アークによるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
7
2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの(B05B3/00,B05B5/00が優先
24
放出装置に液体または他の流動性材料を供給するための手段,例.容器,を有するもの
26
異なった源からの液体または他の流動性材料を,放出装置に導入する前に一緒にするようにした装置
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
26
プラズマトーチ
32
アークを用いるもの
42
プラズマ中に材料,例.粉末,液体,を導入するための設備を有するもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
26
プラズマトーチ
32
アークを用いるもの
44
1以上のトーチを用いるもの
出願人:
中国電力株式会社 THE CHUGOKU ELECTRIC POWER CO., INC. [JP/JP]; 広島県広島市中区小町4番33号 4-33, Komachi, Naka-ku, Hiroshima-shi, Hiroshima 7308701, JP
国立大学法人山口大学 YAMAGUCHI UNIVERSITY [JP/JP]; 山口県山口市吉田1677-1 1677-1, Yoshida, Yamaguchi-shi, Yamaguchi 7538511, JP
発明者:
北村 智昭 KITAMURA, Tomoaki; JP
田中 誠 TANAKA, Makoto; JP
石丸 秀雄 ISHIMARU, Hideo; JP
崎山 智司 SAKIYAMA, Satoshi; JP
代理人:
一色国際特許業務法人 ISSHIKI & CO.; 東京都港区新橋2丁目12番7号 労金新橋ビル Rookin-Shinbashi Bldg., 12-7, Shinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2014-06992828.03.2014JP
発明の名称: (EN) PLASMA SPRAYING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION PLASMATIQUE
(JA) プラズマ溶射装置
要約:
(EN) Provided is a plasma spraying device comprising a primary torch that is provided with a primary positive electrode that has a material intake tube through which a material supply gas containing a spray material is admitted along a central axis and that introduces a primary plasma gas along the central axis, and a secondary torch provided with a secondary negative electrode a central axis of which intersects the central axis of the primary positive electrode. A plasma flame is formed along the central axis of the primary positive electrode by a plasma arc formed between the primary positive electrode and the secondary negative electrode, by the primary plasma gas introduced along the central axis of the primary positive electrode, and by the secondary plasma gas introduced along the central axis of the secondary negative electrode towards the central axis of the primary positive electrode. The material supply gas is admitted from the material intake tube into the plasma flame, the spray material is melted and blown onto a substrate, and a film of the spray material is thereby formed. The plasma spraying device is provided with a supply quantity control unit for controlling the quantity of the material supply gas supplied.
(FR) L'invention concerne un dispositif de pulvérisation plasmatique comprenant une torche primaire qui est pourvue d'une électrode positive primaire qui a un tube d'admission de matériau à travers lequel un gaz d'alimentation en matériau contenant un matériau de pulvérisation est admis le long d'un axe central et qui introduit un gaz plasma primaire le long de l'axe central, et une torche secondaire pourvue d'une électrode négative secondaire dont un axe central croise l'axe central de l'électrode positive primaire. Une flamme plasma est formée le long de l'axe central de l'électrode positive primaire par un arc plasma formé entre l'électrode positive primaire et l'électrode négative secondaire, par le gaz plasma primaire introduit le long de l'axe central de l'électrode positive primaire, et par le gaz plasma secondaire introduit le long de l'axe central de l'électrode négative secondaire vers l'axe central de l'électrode positive primaire. Le gaz d'alimentation en matériau est admis à partir du tube d'admission de matériau dans la flamme plasma, le matériau de pulvérisation est fondu et soufflé sur un substrat, et un film du matériau de pulvérisation est ainsi formé. Le dispositif de pulvérisation plasmatique est pourvu d'une unité de commande de quantité d'alimentation destinée à commander la quantité du gaz d'alimentation en matériau fourni.
(JA)  中心軸に沿って溶射材料を含む材料供給ガスを送入する材料送入管を有する主陽極を備え、前記中心軸に沿って主プラズマガスを導入する主トーチと、中心軸が前記主陽極の前記中心軸と交差する副陰極を備える副トーチと、を有し、前記主陽極と前記副陰極との間に形成されるプラズマアークと、前記主陽極の前記中心軸に沿うように導入される前記主プラズマガスと、前記副陰極の前記中心軸に沿い前記主陽極の前記中心軸に向かうように導入される前記副プラズマガスと、により前記主陽極の前記中心軸に沿うように形成されるプラズマ炎に、前記材料送入管から前記材料供給ガスが送入されて前記溶射材料が溶融され基材に吹き付けられて前記溶射材料の皮膜を形成するプラズマ溶射装置において、前記材料供給ガスの供給量を制御する供給量制御部を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2015147127