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1. (WO2015146924) チオラン環もしくはチアン環骨格を有する化合物の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146924 国際出願番号: PCT/JP2015/058768
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 23.03.2015
IPC:
C07D 333/32 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
333
異項原子として1個の硫黄原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
02
他の環と縮合していないもの
04
環の硫黄原子が置換されていないもの
26
異種原子,または異種原子に対する3個の結合をもち,そのうち多くても1個がハロゲンに対する結合である炭素原子,例.エステルまたはニトリル基,が環の炭素原子に直接結合するもの
30
ハロゲン以外の異種原子
32
酸素原子
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
渡辺 徹 WATANABE, Toru; JP
伊藤 孝之 ITO, Takayuki; JP
武田 玲 TAKEDA, Akira; JP
代理人:
飯田 敏三 IIDA, Toshizo; JP
優先権情報:
2014-06100724.03.2014JP
2014-23938526.11.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING THIOLANE RING OR THIANE RING SKELETON
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ AYANT UN SQUELETTE À CYCLE THIOLANE OU À CYCLE THIANE
(JA) チオラン環もしくはチアン環骨格を有する化合物の製造方法
要約:
(EN) A method for producing a compound represented by general formula (II), said method comprising reacting a compound represented by general formula (I) with a sulfur compound in the presence of a salt of a metal, other than an alkali metal or an alkaline earth metal, or a protonic acid. In general formulae (I) and (II); R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group; X represents a leaving group; Q1 and Q3 represent a methylene group, -C(=O)- or -C[=C(RA1)(RA2)]-; and Q2 represents a single bond, a methylene group, -C(=O)- or -C[=C(RA1)(RA2)]-, wherein RA1 and RA2 represent a hydrogen atom or a substituent. The aforesaid alkyl, aryl and methylene groups may have substituent(s).
(FR) Procédé de production d'un composé représenté par la formule générale (II), ledit procédé comprenant la réaction d'un composé représenté par la formule générale (I) avec un composé de soufre en présence d'un sel d'un métal, autre qu'un métal alcalin ou un métal alcalino-terreux, ou un acide protonique. Dans les formules générales (I) et (II); R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle; X représente un groupe partant; Q1 et Q3 représentent un groupe méthylène, -C(=O)- ou -C[=C(RA1)(RA2)]-; et Q2 représente une liaison simple, un groupe méthylène, -C(=O)- ou -C[=C(RA1)(RA2)]-, dans laquelle RA1 et RA2 représentent un atome d'hydrogène ou un substituant. Les groupes alkyle, aryle et méthylène mentionnés ci-dessus, peuvent avoir un/des substituant(s). FIG. 0: AA%%%Formule générale
(JA)  下記一般式(I)で表される化合物を、アルカリ金属およびアルカリ土類金属以外の金属塩またはプロトン酸存在下、硫黄化合物と反応させる一般式(II)で表される化合物の製造方法。 一般式(I)、(II)中、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基、Xは脱離基、Q及びQはメチレン基、-C(=O)-又は-C〔=C(RA1)(RA2)〕-、Qは単結合、メチレン基、-C(=O)-又は-C〔=C(RA1)(RA2)〕-を表す。RA1及びRA2は水素原子又は置換基を表す。ここで、アルキル基、アリール基及びメチレン基は置換基を有してもよい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)