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1. (WO2015146807) ガスバリア性フィルムの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146807 国際出願番号: PCT/JP2015/058362
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 19.03.2015
IPC:
C23C 16/505 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
50
放電を用いるもの
505
高周波放電によるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
有田 浩了 ARITA, Hiroaki; JP
門馬 千明 MOMMA, Chiaki; JP
代理人:
八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
優先権情報:
2014-06463326.03.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GAS BARRIER FILM
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE FILM BARRIÈRE AUX GAZ
(JA) ガスバリア性フィルムの製造方法
要約:
(EN)  The present invention provides a method for manufacturing a gas barrier film, with which a gas barrier layer having improved gas barrier performance can be formed. The present invention is a method for manufacturing a gas barrier film, including a step in which, while supplying power to facing roller electrodes having a magnetic field generating device within the deposition chamber of a plasma-enhanced chemical vapor phase deposition device, plasma discharge is performed while supplying a deposition gas between the facing roller electrodes, and a gas barrier layer is deposited on a base material, wherein the temperature of the gas chamber provided to the deposition chamber is 80-300°C.
(FR)  La présente invention concerne un procédé pour la fabrication d'un film barrière aux gaz, qui permet de former une couche barrière aux gaz présentant une meilleure efficacité de barrière aux gaz. Le procédé pour la fabrication d'un film barrière aux gaz selon la présente invention comprend une étape dans laquelle, alors que de l'énergie est apportée à des électrodes-rouleaux se faisant face comprenant un dispositif de production de champ magnétique à l'intérieur de la chambre de dépôt d'un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, une injection de plasma est effectuée avec apport simultané d'un gaz de dépôt entre les électrodes-rouleaux se faisant face et une couche barrière aux gaz est déposée sur un matériau de base, la température de la chambre à gaz disposée dans la chambre de dépôt étant de 80 à 300° C.
(JA)  本発明は、ガスバリア性能がより向上したガスバリア層を形成することができるガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。 本発明は、プラズマ化学気相成長装置の成膜チャンバ内で、磁場発生装置を有する対向ローラー電極に電力を供給しながら、前記対向ローラー電極間に成膜ガスを供給してプラズマ放電を行い、基材上にガスバリア層を成膜することを含む、ガスバリア性フィルムの製造方法であって、前記成膜チャンバが備えるガスチャンバの温度が80~300℃である、ガスバリア性フィルムの製造方法である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
JPWO2015146807