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1. (WO2015146758) セラミック電子部品の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146758 国際出願番号: PCT/JP2015/058157
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 19.03.2015
IPC:
H01F 41/10 (2006.01) ,H01F 27/29 (2006.01) ,H01G 4/12 (2006.01) ,H01G 4/30 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
F
磁石;インダクタンス;変成器;それらの磁気特性による材料の選択
41
このサブクラスに包含される装置の製造または組立に特に適合した装置または工程
02
コア,コイルまたは磁石を製造するためのもの
04
コイル製造用
10
巻線へのリード接続
H 電気
01
基本的電気素子
F
磁石;インダクタンス;変成器;それらの磁気特性による材料の選択
27
変成器またはインダクタンスの細部一般
28
コイル;巻線;導電接続
29
端子;タップ配置
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
4
固定コンデンサ;その製造方法
002
細部
018
誘電体
06
固体誘電体
08
無機誘電体
12
セラミック誘電体
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
4
固定コンデンサ;その製造方法
30
積層型コンデンサ
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
長田 孝則 OSADA, Takanori; JP
高橋 篤史 TAKAHASHI, Atsushi; JP
代理人:
小柴 雅昭 KOSHIBA, Masaaki; JP
優先権情報:
2014-06316826.03.2014JP
発明の名称: (EN) PRODUCTION METHOD FOR CERAMIC ELECTRONIC COMPONENTS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSANTS ÉLECTRONIQUES EN CÉRAMIQUE
(JA) セラミック電子部品の製造方法
要約:
(EN) In order to suppress variation, between different product lots, in plating growth dimensions of a plating film forming an external electrode, a correlation is ascertained beforehand between the surface resistance value of a ceramic element (22), the amount of charge applied during electroplating, and actual plating growth dimensions ((L1) or (L1a)) obtained when plating using said amount of applied charge on the ceramic element having the surface resistance value. The amount of applied charge required during plating is determined by: measuring the surface resistance value of the ceramic element (22) upon which electroplating is to be performed and upon which plating films (33, 34) that will form the external electrode are to be formed as a result of the electroplating; and applying this surface resistance value and a design value for the target plating growth dimensions ((L1) or (L1a)) to this correlation. The ceramic element (22) is electroplated using the determined applied charge amount, because the plating films (33, 34) are formed after this step.
(FR) Selon l'invention, afin de supprimer les variations, entre différents lots de produits, des dimensions de croissance de revêtement d'un film de revêtement formant une électrode externe, une corrélation est identifiée au préalable entre la valeur de résistance de surface d'un élément en céramique (22), la quantité de charge appliquée durant un dépôt électrolytique, et des dimensions de croissance de revêtement réelles ((L1) ou (L1a)) obtenues lors d'un dépôt utilisant ladite quantité de charge appliquée sur l'élément en céramique ayant la valeur de résistance de surface. La quantité de charge appliquée nécessaire durant le dépôt est déterminée par : mesure de la valeur de résistance de surface de l'élément en céramique (22) sur lequel un dépôt électrolytique doit être effectué et sur lequel des films de revêtement (33, 34) qui formeront l'électrode externe doivent être formés en résultat du dépôt électrolytique ; et application de cette valeur de résistance de surface et d'une valeur de conception pour les dimensions de croissance de revêtement cibles ((L1) ou (L1a)) à cette corrélation. L'élément en céramique (22) est soumis à un dépôt électrolytique en utilisant la quantité de charge appliquée déterminée, parce que les films de revêtement (33, 34) sont formés après cette étape.
(JA)  外部電極となるめっき膜のめっき成長寸法の、異なる製品ロット間でのばらつきを抑制する。 セラミック素体(22)の表面抵抗値と、電解めっき時の印加電荷量と、表面抵抗値を有するセラミック素体(22)に対して上記印加電荷量のもとでめっきを施したときに得られる実際のめっき成長寸法L1(またはL1a)との間の相関関係を予め把握しておく。これから電解めっきを施すことによって外部電極となるめっき膜(33,34)を形成しようとするセラミック素体(22)の表面抵抗値を測定し、この表面抵抗値および目的とするめっき成長寸法L1(またはL1a)の設計値を、上述した相関関係に適用することによって、めっき時に必要とする印加電荷量を決定する。その後、めっき膜(33,34)を形成するため、決定された印加電荷量のもとで、セラミック素体(22)に電解めっきを施す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2015146758