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1. (WO2015146604) Ni-P合金又はNi-Pt-P合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146604 国際出願番号: PCT/JP2015/057265
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 12.03.2015
予備審査請求日: 14.08.2015
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,B22F 1/00 (2006.01) ,B22F 3/14 (2006.01) ,B22F 3/15 (2006.01) ,B22F 9/08 (2006.01) ,C22C 19/03 (2006.01) ,G11B 5/851 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
1
金属質粉の特殊処理,例.加工を促進するためのもの,特性を改善するためのもの;金属粉それ自体,例.異なる組成の小片の混合
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
12
成形と焼結の両者を特徴とするもの
14
両者を同時に行なうもの
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
12
成形と焼結の両者を特徴とするもの
14
両者を同時に行なうもの
15
熱間静水圧プレス
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
9
金属質粉またはその懸濁液の製造;それに特に適する装置または機械
02
物理的プロセスを用いるもの
06
液体物質からはじまるもの
08
鋳造によるもの,例.ふるいを通してまたは水中への鋳造,アトマイズまたはスプレイによるもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
19
ニッケルまたはコバルトを基とする合金
03
ニッケルを基とする合金
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851
スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
大橋 一允 OHASHI Kazumasa; JP
小田 国博 ODA Kunihiro; JP
代理人:
小越 勇 OGOSHI Isamu; JP
優先権情報:
2014-06713227.03.2014JP
2014-06868028.03.2014JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET COMPRISING Ni-P ALLOY OR Ni-Pt-P ALLOY AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE COMPRENANT UN ALLIAGE Ni-P OU UN ALLIAGE Ni-Pt-P ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) Ni-P合金又はNi-Pt-P合金からなるスパッタリングターゲット及びその製造方法
要約:
(EN) Provided is a production method for a Ni-P alloy sputtering target, said production method being characterized in that: a Ni-P alloy that comprises 15-21 wt% of P and a remainder of Ni and unavoidable impurities is melted, the result is atomized in order to prepare a Ni-P alloy atomized powder having an average particle size of 100 µm or less, pure Ni atomized powder is subsequently mixed with the Ni-P alloy atomized powder, and the result is hot pressed. The present invention addresses the problem of providing a production method for a Ni-P alloy sputtering target in which deviation from a target composition is small.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'une cible de pulvérisation cathodique à alliage Ni-P, ledit procédé de production étant caractérisé en ce que : on fait fondre un alliage Ni-P qui comprend 15 à 21 % en poids de P et le reste de Ni et des impuretés inévitables, le résultat est pulvérisé afin de préparer une poudre pulvérisée d'alliage Ni-P ayant une taille de particule moyenne de 100 µm ou moins, une poudre pulvérisée de Ni pur est ensuite mélangée avec la poudre pulvérisée d'alliage Ni-P, et le produit résultant est pressé à chaud. La présente invention résout le problème de la fourniture d'un procédé de production pour une cible de pulvérisation cathodique d'alliage Ni-P dans laquelle l'écart par rapport à une composition cible est faible.
(JA) P含有量が15~21wt%、残部がNi及び不可避的不純物からなるNi-P合金を溶解し、アトマイズ加工して、平均粒径100μm以下のNi-P合金アトマイズ加工粉を作製した後、このNi-P合金アトマイズ加工粉に純Niアトマイズ粉を混合し、これをホットプレスすることを特徴とするNi-P合金スパッタリングターゲットの製造方法。本発明は、目標組成からのズレが小さい、Ni-P合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供することを課題とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
EP3106540US20170121811CN106133185KR1020160135319