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1. (WO2015146544) 蒸着用マスクの製造方法および表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146544 国際出願番号: PCT/JP2015/056641
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 06.03.2015
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
ソニー株式会社 SONY CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南1丁目7番1号 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
発明者:
石川 博一 ISHIKAWA, Hiroichi; JP
沖田 昌海 OKITA, Masami; JP
堺 健太郎 SAKAI, Kentarou; JP
西塔 明 SAITO, Akira; JP
代理人:
特許業務法人つばさ国際特許事務所 TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 東京都新宿区新宿1丁目15番9号さわだビル3階 3F, Sawada Building, 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2014-06904528.03.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR USE IN VAPOR DEPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MASQUE DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ EN DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 蒸着用マスクの製造方法および表示装置の製造方法
要約:
(EN) A method for manufacturing a mask for use in vapor deposition comprises: forming a first mask which has multiple first openings that serve as through-holes for a vapor deposition material; and stretching the first mask across a frame. In the formation of the first mask, when the positions of the first openings are designed, such a correction that the amount of opening position shift is additionally made upon the stretching of the first mask across the frame.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un masque destiné à être utilisé en dépôt en phase vapeur, qui comprend : la formation d'un premier masque qui comporte de multiples premières ouvertures qui servent de trous de passage pour un matériau de dépôt en phase vapeur ; et l'étirement premier masque sur un cadre. Lors de la formation du premier masque, lorsque les positions des premières ouvertures sont définies, une correction qui tient compte de l'ampleur du décalage de position d'ouverture est en outre effectuée lors de l'étirement du premier masque sur le cadre.
(JA)  蒸着用マスクの製造方法は、蒸着材料の通過孔として複数の第1の開口を有する第1のマスクを形成し、第1のマスクをフレームに張設する。第1のマスクを形成する際、第1の開口の位置設計の際に、フレームへの張設時における開口位置シフト量を加味した補正を行う。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN106133182KR1020160138956