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1. (WO2015146394) Sb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146394 国際出願番号: PCT/JP2015/054712
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 20.02.2015
予備審査請求日: 07.09.2015
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C22C 1/04 (2006.01) ,C22C 12/00 (2006.01) ,C22C 28/00 (2006.01) ,C22C 32/00 (2006.01) ,B22F 1/00 (2006.01) ,B22F 3/14 (2006.01) ,B22F 9/08 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
1
非鉄合金の製造
04
粉末冶金によるもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
12
アンチモンまたはビスマスを基とする合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
28
グループ5/00から27/00に分類されない金属を基とする合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
32
その状態で加えたかまたは合金中で形成された酸化物,炭化物,ほう化物,窒化物,けい化物,またはその他の金属化合物,例.酸窒化物,硫化物,を5重量%以上50重量%未満含有する非鉄合金
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
1
金属質粉の特殊処理,例.加工を促進するためのもの,特性を改善するためのもの;金属粉それ自体,例.異なる組成の小片の混合
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
12
成形と焼結の両者を特徴とするもの
14
両者を同時に行なうもの
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
9
金属質粉またはその懸濁液の製造;それに特に適する装置または機械
02
物理的プロセスを用いるもの
06
液体物質からはじまるもの
08
鋳造によるもの,例.ふるいを通してまたは水中への鋳造,アトマイズまたはスプレイによるもの
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
小井土 由将 KOIDO Yoshimasa; JP
代理人:
小越 勇 OGOSHI Isamu; JP
優先権情報:
2014-06196525.03.2014JP
2014-06196625.03.2014JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET OF SINTERED SB-TE-BASED ALLOY
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION FAITE D'UN ALLIAGE FRITTÉ À BASE DE SB-TE
(JA) Sb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット
要約:
(EN) A sputtering target of a sintered Sb-Te-based alloy which is a sputtering target having an Sb content of 10-60 at% and a Te content of 20-60 at%, the remainder comprising one or more elements selected from among Ag, In, and Ge and unavoidable impurities, characterized in that the oxides have an average grain diameter of 0.5 µm or smaller. The sputtering target of a sintered Sb-Te-based alloy has an improved structure so that the occurrence of arcing during sputtering is prevented and that a film to be deposited by the sputtering has improved thermal stability.
(FR) La présente invention concerne une cible de pulvérisation se composant d'un alliage fritté à base de Sb-Te qui est une cible de pulvérisation présentant une teneur en Sb allant de 10 à 60 % atomique et une teneur en Te allant de 20 à 60 % atomique, le reste comprenant un ou plusieurs éléments choisis parmi Ag, In et Ge et des impuretés inévitables, caractérisée en ce que les oxydes présentent un diamètre moyen de grain inférieur ou égal de 0,5 µm. La cible de pulvérisation se composant d'un alliage fritté à base de Sb-Te possède une structure améliorée de telle sorte que l'apparition d'un arc électrique pendant la pulvérisation est empêchée et qu'un film devant être déposé par la pulvérisation possède une stabilité thermique améliorée.
(JA) Sb含有量が10~60at%、Te含有量が20~60at%、残部がAg、In、Geから選択した一種以上の元素及び不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットであって、酸化物の平均粒径が0.5μm以下であることを特徴とするSb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット。Sb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット組織の改善を図り、スパッタリング時にアーキングの発生を防止すると共に、スパッタリング膜の熱安定性を向上させることを目的とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
EP3048184SG11201604727UCN105917021US20160314945KR1020180052775