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1. (WO2015146354) モノリス型分離膜構造体及びモノリス型分離膜構造体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146354 国際出願番号: PCT/JP2015/054012
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 13.02.2015
IPC:
B01D 69/04 (2006.01) ,B01D 69/02 (2006.01) ,B01D 69/10 (2006.01) ,B01D 69/12 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
04
管状膜
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
それらの特性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
10
支持膜;膜支持体
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
12
複合膜;超薄膜
出願人:
日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP
発明者:
宮原 誠 MIYAHARA, Makoto; JP
市川 真紀子 ICHIKAWA, Makiko; JP
鈴木 秀之 SUZUKI, Hideyuki; JP
代理人:
新樹グローバル・アイピー特許業務法人 SHINJYU GLOBAL IP; 大阪府大阪市北区南森町1丁目4番19号 サウスホレストビル South Forest Bldg., 1-4-19, Minamimori-machi, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300054, JP
優先権情報:
2014-06930128.03.2014JP
発明の名称: (EN) MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE MEMBRANE DE SÉPARATION MONOLITHIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE DE MEMBRANE DE SÉPARATION MONOLITHIQUE
(JA) モノリス型分離膜構造体及びモノリス型分離膜構造体の製造方法
要約:
(EN) A monolithic separation membrane structure (100) is equipped with a porous monolithic substrate (200) and a separation membrane (300). The monolithic substrate (200) has a first end surface (210a), a second end surface (210b), and a plurality of through-holes (210d) extending from the first end surface (210a) to the second end surface (210b). The separation membrane (300) is formed on the inside surface of each of the plurality of through-holes (210d). The surface roughness (Ra) of the separation membrane (300) is 1μm or less. The thickness of the separation membrane (300) is 5μm or less.
(FR) La présente invention concerne une structure de membrane de séparation monolithique (100) qui est équipée d'un substrat monolithique poreux (200) et d’une membrane de séparation (300). Le substrat monolithique (200) a une première surface d'extrémité (210a), une deuxième surface d'extrémité (210b), et une pluralité de trous de passage (210d) s'étendant de la première surface d'extrémité (210a) à la deuxième surface d'extrémité (210b). La membrane de séparation (300) est formée sur la surface intérieure de chacun de la pluralité de trous de passage (210d). La rugosité de surface (Ra) de la membrane de séparation (300) est de 1 µm ou moins. L'épaisseur de la membrane de séparation (300) est de 5 µm ou moins.
(JA)  モノリス型分離膜構造体(100)は、多孔質のモノリス型基材(200)と分離膜(300)とを備える。モノリス型基材(200)は、第1端面(210a)と、第2端面(210b)と、第1端面(210a)から第2端面(210b)までそれぞれ貫通する複数の貫通孔(210d)とを有する。分離膜(300)は、複数の貫通孔(210d)それぞれの内表面に形成される。分離膜300の表面粗さRaは、1μm以下である。分離膜300の厚みは、5μm以下である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN106102879US20160375405EP3124104JPWO2015146354MYPI 2016703404