16:00 CETの火曜日 19.11.2019のメンテナンス理由で数時間使用できません
国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2015146252) 酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146252 国際出願番号: PCT/JP2015/051606
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 22.01.2015
IPC:
C04B 35/00 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
C 化学;冶金
04
セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B
石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35
組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
角田 浩二 KAKUTA Koji; JP
長田 幸三 OSADA Kozo; JP
代理人:
小越 勇 OGOSHI Isamu; JP
優先権情報:
2014-06896928.03.2014JP
発明の名称: (EN) SINTERED OXIDE BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING SAID SINTERED OXIDE BODY
(FR) CORPS D'OXYDE FRITTÉ ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE COMPORTANT LEDIT CORPS D'OXYDE FRITTÉ
(JA) 酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット
要約:
(EN) The sintered oxide body comprises indium (In), gallium (Ga), zinc (Zn), oxygen (O), and unavoidable impurities, and is characterized in that: the sintered oxide body is provided with an IGZO (111) phase comprising In, Ga and Zn at In:Ga:Zn = 1:1:1 by atom ratio and an IGZO phase containing more Zn than the IGZO (111) phase; the IGZO phase containing more Zn than the IGZO (111) phase occupies a surface area ratio of 1 to 10%, and the atom number ratio of In, Ga and Zn in the sintered oxide body is In:Ga:Zn = 1:1:(1.02 to 1.10). The objective of the present invention is to provide an IGZO sintered oxide body allowing for a reduction of oxygen concentration that is necessary during sputtering to obtain a film having a desired carrier concentration.
(FR) L'invention concerne un corps d'oxyde fritté qui comporte de l'indium (In), du gallium (Ga), du zinc (Zn), de l'oxygène (O) et des impuretés inévitables et qui est caractérisé en ce qu'il est pourvu d'une phase d'IGZO (111) comportant de l'In, du Ga et du Zn en un rapport atomique In:Ga:Zn = 1:1:1 et d'une phase d'IGZO contenant plus de Zn que la phase d'IGZO (111); en ce que la phase d'IGZO contenant plus de Zn que la phase d'IGZO (111) occupe une proportion surfacique de 1 à 10 % et le rapport des nombres d'atomes d'In, de Ga et de Zn dans le corps d'oxyde fritté est In:Ga:Zn = 1:1:(1,02 à 1,10). Le corps d'oxyde fritté d'IGZO selon la présente invention permet une réduction de la concentration en oxygène qui est nécessaire pendant la pulvérisation cathodique pour obtenir un film ayant la concentration de porteurs souhaitée.
(JA) インジウム(In)、ガリウム(Ga)、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び不可避的不純物からなる酸化物焼結体であって、In、Ga及びZnの原子比でIn:Ga:Zn=1:1:1からなるIGZO(111)相と、IGZO(111)相よりもZnを多く含むIGZO相とを備え、IGZO(111)相よりもZnを多く含むIGZO相が面積比率で1~10%であり、該酸化物焼結体のIn、Ga及びZnの原子数比が、In:Ga:Zn=1:1:(1.02~1.10)からなることを特徴とする酸化物焼結体。所望のキャリア濃度を有する膜を得るために必要なスパッタ時の酸素濃度を低減することが可能なIGZO酸化物焼結体を提供することを課題とする。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020150125726CN105209405