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1. (WO2015146211) ヘリウムガスの精製方法および精製システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146211 国際出願番号: PCT/JP2015/050342
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 08.01.2015
IPC:
C01B 23/00 (2006.01) ,B01D 53/04 (2006.01)
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
23
希ガス;その化合物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
02
吸着によるもの,例.分取ガスクロマトグラフィー
04
吸着剤を静置したもの
出願人:
住友精化株式会社 SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の1 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145, JP
発明者:
岸井 充 KISHII Mitsuru; JP
尤 瓏 YOU Long; JP
志摩 康一 SHIMA Kouichi; JP
代理人:
根本 進 NEMOTO Susumu; JP
優先権情報:
2014-06884028.03.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD AND SYSTEM FOR PURIFYING HELIUM GAS
(FR) PROCÉDÉ ET INSTALLATION DESTINÉS À LA PURIFICATION D'HÉLIUM GAZEUX
(JA) ヘリウムガスの精製方法および精製システム
要約:
(EN) Provided are a method and a system by which rarefied helium gas is industrially and efficiently purified with small-scale equipment to a high degree. In each of the adsorption towers (2a, 2b, 2c) for concentration of a first pressure swing adsorption device (1), an adsorption step, a depressurization step, a desorption step, and a pressurization step are successively performed to adsorb impurity gases contained in the rarefied helium gas onto an adsorbent and to discharge concentrated helium gas, which has remained unadsorbed onto the adsorbent. A passageway for introducing the concentrated helium gas into each of the multiple adsorption towers (102a, 102b, 102c) for reconcentration of a second pressure swing adsorption device (101) is connected to a passageway for discharging the concentrated helium gas from the first pressure swing adsorption device (1). In each of the adsorption towers for reconcentration, an adsorption step, a depressurization step, a desorption step, and a pressurization step are successively performed to adsorb impurity gases contained in the concentrated helium gas onto an adsorbent and to discharge reconcentrated helium gas, which has remained unadsorbed onto the adsorbent.
(FR) L'invention concerne un procédé et un système par lequel de l'hélium gazeux raréfié est purifié à un degré élevé, industriellement et efficacement, à l'aide d'un équipement à petite échelle. Dans chacune des tours d'adsorption (2a, 2b, 2c) pour la concentration d'un premier dispositif d'adsorption modulée en pression (1), on réalise successivement une étape d'adsorption, une étape de dépressurisation, une étape de désorption et une étape de mise sous pression afin d'adsorber les impuretés gazeuses contenues dans l'hélium gazeux raréfié sur un adsorbant et d'évacuer l'hélium gazeux concentré, qui est resté sous forme non adsorbée sur l'adsorbant. Une voie de passage pour introduire l'hélium gazeux concentré dans chacune des multiples tours d'adsorption (102a, 102b, 102c) pour la reconcentration d'un second dispositif d'adsorption modulée en pression (101) est reliée à une voie de passage pour évacuer l'hélium gazeux concentré du premier dispositif d'adsorption modulée en pression (1). Dans chacune des tours d'adsorption pour la reconcentration, on réalise successivement une étape d'adsorption, une étape de dépressurisation, une étape de désorption et une étape de mise sous pression afin d'adsorber les impuretés gazeuses contenues dans l'hélium gazeux concentré sur un adsorbant et d'évacuer l'hélium gazeux reconcentré, qui est resté sous forme non adsorbée sur l'adsorbant.
(JA)  工業的に希薄ヘリウムガスを小規模な設備で効率良く高純度に精製する方法とシステムを提供する。 第1の圧力スイング吸着装置1の濃縮用吸着塔2a、2b、2cそれぞれにおいて、吸着工程、減圧工程、脱着工程、昇圧工程を順次実行し、希薄ヘリウムガスに含まれる不純物ガスを吸着剤に吸着すると共に吸着剤に吸着されない濃縮ヘリウムガスを排出する。第1の圧力スイング吸着装置1から濃縮ヘリウムガスを排出するための流路に、第2の圧力スイング吸着装置101の複数の再濃縮用吸着塔102a、102b、102cそれぞれに濃縮ヘリウムガスを導入するための流路を接続する。再濃縮用吸着塔それぞれにおいて、吸着工程、減圧工程、脱着工程、昇圧工程を順次実行し、濃縮ヘリウムガスに含まれる不純物ガスを吸着剤に吸着すると共に吸着剤に吸着されない再濃縮ヘリウムガスを排出する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN105939960JPWO2015146211KR1020160138377