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1. (WO2015146023) エッチング方法、および、これを用いた有機EL表示パネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/146023 国際出願番号: PCT/JP2015/001290
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 10.03.2015
IPC:
H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/26 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
26
電極として使用される導電物質の配置あるいは組成によって特徴づけられたもの
出願人:
株式会社JOLED JOLED INC. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目23番地 23, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
発明者:
矢田 修平 YADA, Shuhei; null
代理人:
特許業務法人 ナカジマ知的財産綜合事務所 NAKAJIMA & ASSOCIATES IP FIRM; 大阪府大阪市北区豊崎三丁目2番1号淀川5番館6F 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072, JP
優先権情報:
2014-06117025.03.2014JP
発明の名称: (EN) ETCHING METHOD AND ORGANIC EL DISPLAY PANEL MANUFACTURING METHOD USING SAME
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE L'UTILISANT
(JA) エッチング方法、および、これを用いた有機EL表示パネルの製造方法
要約:
(EN) In this etching method, a mask pattern is formed on a double layer structure configured from a metal layer and a metal oxide layer. A region of the metal oxide layer is removed by performing plasma etching to the double layer structure, said plasma etching using a fluorine-based gas. A surface section of a region of the metal layer is cleaned using a cleaning liquid capable of dissolving aluminum fluoride. Etching is performed through the mask pattern, and the region of the metal layer is removed.
(FR) La présente invention concerne un procédé de gravure, dans lequel un modèle de masque est formé sur une structure à double couche conçue à partir d'une couche de métal et d'une couche d'oxyde de métal. Une région de la couche d'oxyde de métal est éliminée par une gravure au plasma de la structure à double couche, ladite gravure au plasma utilisant un gaz à base de fluor. Une section de surface d'une région de la couche de métal est nettoyée à l'aide d'un liquide de nettoyage susceptible de dissoudre le fluorure d'aluminium. La gravure est effectuée à travers le modèle de masque et la région de la couche de métal est éliminée.
(JA)  金属層と金属酸化物層の二層構造上にマスクパターンを形成する。二層構造にフッ素系ガスを用いたプラズマエッチングを施して金属酸化物層の領域を除去する。フッ化アルミニウムを溶解可能な洗浄液を用いて金属層の領域の表面部を洗浄する。マスクパターンを通じてエッチングを施して、金属層の前記領域を除去する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)