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1. (WO2015145864) 位置ずれ検出方法、位置ずれ検出装置、描画装置および基板検査装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/145864 国際出願番号: PCT/JP2014/080460
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 18.11.2014
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G01B 11/26 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
26
角度またはテーパ測定用;軸の心合せ試験用
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
9
原稿,マスク,フレーム,写真シート,表面構造または模様が作成された表面,の位置決めまたは位置合わせ,例.自動的なもの
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
中井 一博 NAKAI, Kazuhiro; JP
代理人:
振角 正一 FURIKADO, Shoichi; JP
優先権情報:
2014-05991524.03.2014JP
発明の名称: (EN) POSITION DISPLACEMENT DETECTION METHOD, POSITION DISPLACEMENT DETECTION DEVICE, DRAWING DEVICE, AND SUBSTRATE INSPECTION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉPLACEMENT DE POSITION, DISPOSITIF DE DÉTECTION DE DÉPLACEMENT DE POSITION, DISPOSITIF DE DESSIN ET DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT
(JA) 位置ずれ検出方法、位置ずれ検出装置、描画装置および基板検査装置
要約:
(EN) The present invention addresses the issues of: providing a position displacement detection technology capable of accurately finding the amount of rotational position displacement in a reference direction for the surface of a substrate that is positioned such that a cut-out section provided on an outer circumferential section thereof faces the reference direction; and performing highly accurate drawing and precise substrate inspections by using said position displacement detection technology. [Solution] A position displacement detection method comprising: a first step in which a partial image of the surface of a substrate is obtained; a second step in which a plurality of patterns included in the partial image are obtained; a third step in which a plurality of pattern pairs are selected from the plurality of patterns and a plurality of equal-pitch pairs having an equal distance between patterns among the plurality of pattern pairs are found; a fourth step in which a rotation angle for two patterns relative to the reference direction is found, for each pitch pair, on the basis of position information for the two patterns constituting the pitch pair; and a fifth step in which a rotation position displacement amount is found from the plurality of rotation angles found in the fourth step.
(FR) La présente invention résout les problèmes de : fourniture d'une technologie de détection de déplacement de position capable de déterminer précisément la quantité de déplacement de position de rotation dans une direction de référence pour la surface d'un substrat qui est positionné de sorte qu'une section de découpe disposée sur une section circonférentielle externe de celui-ci soit face à la direction de référence; et conduite d'un dessin très précis et d'une inspection de substrat précise au moyen de ladite technologie de détection de déplacement de position. [Solution] La présente invention concerne un procédé de détection de déplacement de position comprenant : une première étape dans laquelle une image partielle de la surface d'un substrat est obtenue; une deuxième étape dans laquelle une pluralité de motifs inclus dans l'image partielle sont obtenus; une troisième étape dans laquelle une pluralité de paires de motifs sont sélectionnées parmi la pluralité de motifs et une pluralité de paires de pas égaux ayant une distance égale entre les motifs parmi la pluralité de paires de motifs sont identifiées; une quatrième étape dans laquelle un angle de rotation pour deux motifs par rapport à la direction de référence est déterminé, pour chaque paire de pas, sur la base d'informations de position pour les deux motifs constituant la paire de pas; et une cinquième étape dans laquelle une quantité de déplacement de position de rotation est déterminée à partir de la pluralité d'angles de rotation déterminés dans la quatrième étape.
(JA)  外周部に設けられた切欠部が基準方向を向くように位置決めされた、基板の表面の基準方向に対する回転位置ずれ量を正確に求めることができる位置ずれ検出技術、ならびに当該位置ずれ検出技術を用いて高精度な描画処理や正確な基板検査を行う。 【解決手段】基板の表面の部分画像を取得する第1工程と、部分画像に含まれる複数のパターンを取得する第2工程と、複数のパターンからパターン対を複数個選定し、複数のパターン対のうちパターン間の距離が互いに等しい複数の等ピッチ対を求める第3工程と、等ピッチ対毎に、当該等ピッチ対を構成する2つのパターンの位置情報に基づいて基準方向に対する2つのパターンの回転角を求める第4工程と、第4工程で求められた複数の回転角から回転位置ずれ量を求める第5工程とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)