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1. (WO2015145741) 基板処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/145741 国際出願番号: PCT/JP2014/059194
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 28.03.2014
予備審査請求日: 29.09.2014
IPC:
H05K 13/02 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
13
電気部品の組立体の製造または調整に特に適した装置または方法
02
部品の供給
出願人:
ヤマハ発動機株式会社 YAMAHA HATSUDOKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 静岡県磐田市新貝2500 2500 Shingai, Iwata-shi, Shizuoka 4388501, JP
発明者:
小林 基記 KOBAYASHI Motoki; JP
藤本 猛志 FUJIMOTO Takeshi; JP
野里女 正広 NORIME Masahiro; JP
代理人:
特許業務法人暁合同特許事務所 AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区栄二丁目1番1号 日土地名古屋ビル5階 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
要約:
(EN) A substrate processing device (S) which executes predetermined processing on a print substrate (P), said device being provided with: a conveyor (200) which is disposed so as to be spaced apart from an input conveyor (250) or output conveyor (270) disposed upstream or downstream of the substrate processing device (S) respectively, said conveyor (200) transporting the print substrate (P) within the substrate processing device (S) in the X-axis direction; a mover device (100) which moves the conveyor (200) in the X-axis direction within the substrate processing device (S); an execution unit (35) which executes predetermined processing on the print substrate (P) that has been transported into the substrate processing device (S) by the conveyor (200); and a control unit (310). When the print substrate (P) is to be received from the input conveyor (250) or passed to the output conveyor (270), the control unit (310) uses the mover device (100) to adjust the position of the conveyor (200) in the X-axis direction so that the inter-conveyor distance (D) to the counterpart-side conveyor is less than or equal to a transfer-success distance (Vo) corresponding to the size (Px) of the print substrate (P).
(FR) L'invention concerne un dispositif (S) de traitement de substrat qui exécute un traitement prédéterminé sur un substrat d'impression (P), ledit dispositif comportant : un convoyeur (200) qui est disposé de manière à être espacé d'un convoyeur d'entrée (250) ou d'un convoyeur de sortie (270) disposé respectivement en amont ou en aval du dispositif (S) de traitement de substrat, ledit convoyeur (200) transportant le substrat d'impression (P) à l'intérieur du dispositif de traitement de substrat (S) dans la direction de l'axe X; un dispositif de déplacement (100) qui déplace le convoyeur (200) dans la direction de l'axe X à l'intérieur du dispositif (S) de traitement de substrat; une unité d'exécution (35) qui exécute un traitement prédéterminé sur le substrat d'impression (P) qui a été transporté dans le dispositif (S) de traitement de substrat par le convoyeur (200); et une unité de commande (310). Lorsque le substrat d'impression (P) doit être reçu à partir du convoyeur d'entrée (250) ou passé au convoyeur de sortie (270), l'unité de commande (310) utilise le dispositif de déplacement (100) pour régler la position du convoyeur (200) dans la direction de l'axe X de telle sorte que la distance (D) entre convoyeurs (D) au convoyeur de côté contrepartie est inférieure ou égale à une distance de succès de transfert (Vo) correspondant à la taille (Px) du substrat d'impression (P).
(JA)  プリント基板Pに対して所定の処理を実行する基板処理装置Sであって、 前記基板処理装置Sの上下流にそれぞれ配置された搬入コンベア250又は搬出コンベア270と間隔を空けて配置され、プリント基板Pを前記基板処理装置S内にてX軸方向に搬送するコンベア200と、前記コンベア200を、前記基板処理装置S内にてX軸方向に移動する移動装置100と、前記コンベア200により前記基板処理装置S内へ搬送されたプリント基板Pに対して所定の処理を実行する実行部35と、制御部310とを備え、前記制御部310は、前記搬入コンベア250との間又は前記搬出コンベア270との間で、プリント基板Pを受け渡す場合、相手側コンベアに対するコンベア間距離Dが、プリント基板PのサイズPxに対応した受渡成功距離Vo以下になるように、前記コンベア200のX軸方向の位置を、前記移動装置100を用いて調整する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)