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1. (WO2015145705) 荷電粒子ビーム照射システムおよび治療計画装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/145705 国際出願番号: PCT/JP2014/059065
国際公開日: 01.10.2015 国際出願日: 28.03.2014
IPC:
H05H 13/04 (2006.01) ,A61N 5/10 (2006.01) ,G21K 5/04 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
13
磁気共振型加速器;サイクロトロン
04
シンクロトロン
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
5
放射線治療
10
X線治療;ガンマ線治療;粒子照射治療
G 物理学
21
核物理;核工学
K
他に分類されない粒子線または電離放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡
5
照射装置
04
ビーム形成手段をもつもの
出願人:
株式会社日立製作所 HITACHI, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280, JP
株式会社 日立情報制御ソリューションズ HITACHI INFORMATION & CONTROL SOLUTIONS, LTD. [JP/JP]; 茨城県日立市大みか町五丁目2番1号 2-1, Omika-cho 5-chome, Hitachi-shi, Ibaraki 3191293, JP
発明者:
大倉 曉 OKURA Satoru; JP
森山 國夫 MORIYAMA Kunio; JP
松下 尊良 MATSUSHITA Takayoshi; JP
堀 能士 HORI Yoshihito; JP
代理人:
井上 学 INOUE Manabu; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 株式会社日立製作所内 c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION SYSTEM AND TREATMENT PLANNING DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ÉMISSION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET DISPOSITIF DE PLANIFICATION DE TRAITEMENT
(JA) 荷電粒子ビーム照射システムおよび治療計画装置
要約:
(EN)  A charged particle beam emission system and a method for controlling the same, wherein an accelerator is operated through combining single emission operation and multistage emission operation, thereby making it possible to improve the dose rate. Among layers set on the basis of the shape of an affected area by a treatment planning device (140), a layer that is deemed to require a higher target irradiation dose than the irradiation dose that can be applied in a single cycle of single emission operation of a synchrotron (12) is irradiated with a beam in a single emission operation. At the point in time at which, at the end of the operation cycle of the synchrotron (12), the remainder of the target emission dose for the layer falls below the irradiation dose that can be applied in a single cycle of a single emission operation, a transition is made to irradiating the next layer. The above procedure is repeated to the final layer. The method for operating the synchrotron (12) is switched from single emission operation to multistage emission operation, the irradiation operation returns to irradiating the first layer, and layers for which irradiation is not complete are sequentially irradiated.
(FR)  L'invention concerne un système d'émission de faisceau de particules chargées et son procédé de commande. Un accélérateur est exploité par combinaison d'une opération d'émission unique et d'une opération d'émission à plusieurs étages, moyennant quoi il est possible d'améliorer le débit de dose. Parmi des couches définies sur la base de la forme d'une zone affectée par un dispositif de planification de traitement (140), une couche qui est considérée comme exigeant une dose d'exposition cible supérieure à la dose d'exposition qui peut être appliquée en un seul cycle d'opération d'émission unique d'un synchrotron (12) est exposée à un faisceau dans une opération d'émission unique. À l'instant auquel, à la fin du cycle de fonctionnement du synchrotron (12), le reste de la dose d'émission cible pour la couche chute au-dessous de la dose d'exposition qui peut être appliquée en un seul cycle d'une opération d'émission unique, une transition est effectuée pour exposer la couche suivante. La procédure décrite ci-dessus est répétée jusqu'à la couche finale. Le procédé d'exploitation du synchrotron (12) est fait passer d'une opération d'émission unique à une opération d'émission à plusieurs étages, l'opération d'exposition retourne à l'exposition de la première couche, et des couches pour lesquelles l'exposition n'est pas achevée sont séquentiellement exposées.
(JA)  荷電粒子ビーム照射システムおよびその制御方法において、単一出射運転と多段出射運転を組み合わせて加速器の運転を行うことにより、線量率を向上できるようにする。 治療計画装置(140)により、患部形状に基づいて設定された層のうち、シンクロトロン(12)の単一出射運転の1サイクルで照射可能な照射線量よりも、多くの目標照射線量が必要とされる層に対して、単一出射運転でビーム照射を行い、シンクロトロン(12)の運転サイクル終了時に、当該層の残りの目標照射線量が、単一出射運転の1サイクルで照射可能な照射線量よりも、少なくなった時点で、次の層の照射に移行することを最終層まで繰り返し、シンクロトロン(12)の運転方法を、単一出射運転から多段出射運転に切り替え、一番初めの層の照射に戻り、照射が完了していない層を順次照射する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)