国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2015141794) 垂直磁化膜用下地、垂直磁化膜構造、垂直MTJ素子及びこれらを用いた垂直磁気記録媒体
公開後の更新情報
公開日公報種別公開理由
24.09.2015A1最初の国際公開 (ISR 含む)