国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2015141794) 垂直磁化膜用下地、垂直磁化膜構造、垂直MTJ素子及びこれらを用いた垂直磁気記録媒体
国内段階移行に関する情報(詳細)
官庁移行日国内番号国内ステータス
日本 15.09.20162016508805
アメリカ合衆国 20.09.201615127527Published: 18.05.2017
Granted: 05.02.2019
大韓民国1020167025828Published: 23.01.2017