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1. (WO2015141794) 垂直磁化膜用下地、垂直磁化膜構造、垂直MTJ素子及びこれらを用いた垂直磁気記録媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/141794 国際出願番号: PCT/JP2015/058306
国際公開日: 24.09.2015 国際出願日: 19.03.2015
IPC:
G11B 5/735 (2006.01) ,G11B 5/70 (2006.01) ,G11B 5/84 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73
ベース層によって特徴づけられるもの
735
バック層により特徴づけられるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
68
結合材料中に均一に混合された1以上の層の磁性粒子からなるもの
70
ベース層上に設けられたもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
出願人:
独立行政法人物質・材料研究機構 NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE [JP/JP]; 茨城県つくば市千現一丁目2番地1 2-1, Sengen 1-chome, Tsukuba-shi, Ibaraki 3050047, JP
発明者:
介川 裕章 SUKEGAWA Hiroaki; JP
温 振超 WEN Zhenchao; JP
三谷 誠司 MITANI Seiji; JP
猪俣 浩一郎 INOMATA Koichiro; JP
古林 孝夫 FURUBAYASHI Takao; JP
ハドーン ジェイソン ポール HADORN Jason Paul; JP
大久保 忠勝 OHKUBO Tadakatsu; JP
宝野 和博 HONO Kazuhiro; JP
グ ジョンウ KOO Jungwoo; JP
代理人:
西澤 利夫 NISHIZAWA Toshio; JP
優先権情報:
2014-05844020.03.2014JP
発明の名称: (EN) UNDERCOATING FOR PERPENDICULARLY MAGNETIZED FILM, PERPENDICULARLY MAGNETIZED FILM STRUCTURE, PERPENDICULAR MTJ ELEMENT, AND PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING SAME
(FR) SOUS-COUCHE POUR FILM MAGNÉTISÉ PERPENDICULAIREMENT, STRUCTURE DE FILM MAGNÉTISÉ PERPENDICULAIREMENT, ÉLÉMENT DE JONCTION TUNNEL MAGNÉTIQUE PERPENDICULAIRE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE PERPENDICULAIRE UTILISANT CELUI-CI
(JA) 垂直磁化膜用下地、垂直磁化膜構造、垂直MTJ素子及びこれらを用いた垂直磁気記録媒体
要約:
(EN) Disclosed is a perpendicularly magnetized film structure employing a highly heat resistant undercoating film on which a cubic or tetragonal perpendicularly magnetized film can grow with high quality, said structure comprising: a cubic monocrystalline substrate (5) having a (001) plane direction, or a substrate (5) having a cubic alignment film that has grown with a (001) plane direction; an undercoating layer (6) made of a thin film of metal, such as Ru or Re, having an hcp structure and formed on said substrate (5), wherein the [0001] direction of the thin metal film forms an angle within a range from 42° to 54° with respect to the <001> direction or the (001) plane direction of the substrate (5); and a perpendicularly magnetized layer (7) located on the metal undercoating layer (6), and made of a cubic material that has grown with a (001) plane direction, the composition material of the cubic material being selected from the group consisting of Co-based Heusler alloys, bcc-structure cobalt-iron (CoFe) alloys, and the like.
(FR) La présente invention concerne une structure de film magnétisé perpendiculairement utilisant en sous-couche un film hautement résistant à la chaleur, sur lequel peut croître un film magnétisé perpendiculairement, cubique ou tétragonal, de qualité élevée, ladite structure comprenant : un substrat monocristallin cubique (5) présentant la direction du plan (001) ou un substrat (5) sur lequel a été développé un film d'alignement cubique dans la direction du plan (001) ; une sous-couche (6) composée d'un film mince de métal, tel que Ru ou Re, présentant une structure hcp (hexagonale compacte) et formé sur ledit substrat (5), la direction [0001] du film mince métallique formant un angle situé dans une plage allant de 42° à 54° par rapport à la direction <001> ou à la direction du plan (001) du substrat (5) ; et une couche (7) magnétisée perpendiculairement située sur la sous-couche métallique (6), et composée d'un matériau cubique qui s'est développé dans la direction du plan (001), le matériau de composition constituant le matériau cubique étant choisi dans le groupe constitué par des alliages Heusler à base de Co, des alliages de cobalt-fer (CoFe) à structure bcc (cubique centrée), et similaires.
(JA) 立方晶系または正方晶系垂直磁化膜を高品質に成長可能であって耐熱性の高い下地膜を用いた垂直磁化膜構造として、(001)面方位の立方晶系単結晶の基板、または(001)面方位をもって成長した立方晶系配向膜を有する基板の一方(5)と、基板5に形成されたhcp構造のRu、Re等の金属の薄膜であって、基板5の<001>方位又は(001)面方位に対して、[0001]方位が42°~54°の範囲の角度をなす前記金属の薄膜からなる下地層(6)と、金属下地層6の上に位置すると共に、組成材料としてCo基ホイスラー合金、bcc構造のコバルト-鉄(CoFe)合金等からなる群より選ばれた(001)面方位をもって成長した立方晶材料よりなる垂直磁化層(7)とを有する構造とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2015141794US20170140784KR1020170008201