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1. (WO2015141719) 感放射線樹脂組成物及び電子部品
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/141719 国際出願番号: PCT/JP2015/058044
国際公開日: 24.09.2015 国際出願日: 18.03.2015
IPC:
G03F 7/075 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
出願人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
発明者:
堤 隆志 TSUTSUMI, Takashi; JP
代理人:
とこしえ特許業務法人 TOKOSHIE PATENT FIRM; 東京都新宿区西新宿7丁目22番27号 西新宿KNビル Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
優先権情報:
2014-05852620.03.2014JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 感放射線樹脂組成物及び電子部品
要約:
(EN) Provided is a radiation-sensitive resin composition containing a binder resin (A), a radiation sensitive compound (B), a cross-linking agent (C), and the silane coupling agent (D) represented in general formula (1). (In general formula (1), R1 to R3 each independently is a monovalent alkyl group having 1-5 carbon atoms, R4 is a divalent alkylene group having 1-10 carbon atoms, R5 is a hydrogen atom or a monovalent alkyl group having 1-5 carbon atoms, and R6 to R10 are a hydrogen atom or a monovalent alkyl group having 1-5 carbon atoms.)
(FR) La présente invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements contenant une résine liante (A), un composé sensible aux rayonnements (B), un agent de réticulation (C) et l'agent de couplage de type silane (D) représenté dans la formule générale (1). (Dans la formule générale (1), R1 à R3 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle monovalent ayant de 1 à 5 atomes de carbone, R4 représente un groupe alkylène divalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, R5 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle monovalent ayant de 1 à 5 atomes de carbone, et R6 à R10 représentent un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle monovalent ayant de 1 à 5 atomes de carbone.)
(JA)  バインダー樹脂(A)、感放射線化合物(B)、架橋剤(C)、及び下記一般式(1)で表されるシランカップリング剤(D)を含有する感放射線樹脂組成物を提供する。(上記一般式(1)中、R~Rは、それぞれ独立に、炭素数1~5の1価のアルキル基、Rは、炭素数1~10の2価のアルキレン基、Rは、水素原子又は炭素数1~5の1価のアルキル基、R~R10は、水素原子又は炭素数1~5の1価のアルキル基である。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20170017155EP3121652JPWO2015141719CN106062631KR1020160137527