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1. (WO2015141571) 磁性材スパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/141571 国際出願番号: PCT/JP2015/057428
国際公開日: 24.09.2015 国際出願日: 13.03.2015
予備審査請求日: 07.09.2015
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,G11B 5/851 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851
スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
池田 祐希 IKEDA Yuki; JP
荒川 篤俊 ARAKAWA Atsutoshi; JP
代理人:
小越 勇 OGOSHI Isamu; JP
優先権情報:
2014-05509218.03.2014JP
発明の名称: (EN) MAGNETIC SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁性材スパッタリングターゲット
要約:
(EN) This sputtering target has a metal matrix phase containing Fe and a non-magnetic phase forming dispersed particles, and is characterized in that the non-magnetic phase contains 0.1-40 mol% of C, and in that of the single X-ray diffraction peaks, the integral breadth of the diffraction peak with the highest intensity is 0.8 or less. In this non-magnetic particle-dispersed sputtering target, burn-in time is reduced by suppressing generation of initial particles during sputtering, and stable discharge can be obtained when sputtering.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique dotée d'une phase formant matrice métallique contenant du Fe et d'une phase non magnétique formant des particules dispersées, et est caractérisée en ce que la phase non magnétique contient de 0,1 à 40 % en moles de C et en ce que dans les pics de diffraction de rayon X unique, la largeur intégrale du pic de diffraction ayant l'intensité la plus élevée est de 0,8 ou moins. Dans la cible de pulvérisation cathodique à particules non magnétiques dispersées selon l'invention, le temps de chauffage est réduit par suppression de la génération de particules initiales pendant la pulvérisation, et un déchargement stable peut être obtenu lors de la pulvérisation.
(JA) Feを含有する金属マトリックス相と、粒子を形成して分散して存在する非磁性相を有するスパッタリングターゲットであって、非磁性相が0.1~40mol%のCを含有し、X線回折の単一ピークの中で最も強度の高い回折ピークの積分幅が0.8以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。スパッタリング時の初期パーティクルの発生を抑制してバーンイン時間を低減するとともに、スパッタする際に安定した放電が得られる非磁性材粒子分散型スパッタリングターゲットを提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
SG11201604730PJPWO2015141571CN106795620MYPI 2016702439