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1. (WO2015137464) 原版の検査方法、検査用原版の作製方法および、原版
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/137464 国際出願番号: PCT/JP2015/057363
国際公開日: 17.09.2015 国際出願日: 12.03.2015
IPC:
G01B 11/00 (2006.01) ,G01B 11/02 (2006.01) ,G01N 21/88 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
02
長さ,幅または厚み測定用
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
出願人:
株式会社 東芝 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 東京都港区芝浦一丁目1番1号 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001, JP
発明者:
森田 成二 MORITA Seiji; JP
川門前 善洋 KAWAMONZEN Yoshiaki; JP
杉村 忍 SUGIMURA Shinobu; JP
代理人:
勝沼 宏仁 KATSUNUMA Hirohito; JP
優先権情報:
2014-05086913.03.2014JP
発明の名称: (EN) ORIGINAL PLATE INSPECTION METHOD, METHOD FOR PREPARING ORIGINAL PLATE FOR INSPECTION, AND ORIGINAL PLATE
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE PLAQUE ORIGINALE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE PLAQUE ORIGINALE POUR INSPECTION, ET PLAQUE ORIGINALE
(JA) 原版の検査方法、検査用原版の作製方法および、原版
要約:
(EN)  This original plate inspection method has: a step for preparing an original plate for inspection, having a second pattern that corresponds to a first pattern provided to the original plate, and a third pattern that is provided to a second surface which is the surface opposite from the surface provided with the second pattern; a step for enlarging a lithographic original plate for inspection; a step, following enlargement of the original plate for inspection, for comparing the dimensions of the pre-enlargement third pattern and the post-enlargement third pattern, and calculating the enlargement factor of the third pattern; a step, following enlargement of the lithographic original plate for inspection, for acquiring defect location information for the second pattern; and a step for acquiring defect location information for the first pattern of the original plate, on the basis of the defect location information for the post-enlargement second pattern, and the enlargement factor of the post-enlargement third pattern.
(FR)  La présente invention concerne un procédé d'inspection de plaque originale qui comprend : une étape de préparation d'une plaque originale pour inspection, ayant un deuxième motif qui correspond à un premier motif disposé sur la plaque originale, et un troisième motif qui est disposé sur une deuxième surface qui est la surface opposée à la surface pourvue du deuxième motif; une étape pour agrandir une plaque originale lithographique pour inspection; une étape, après l'agrandissement de la plaque originale pour inspection, de comparaison des dimensions du troisième motif pré-agrandissement et du troisième motif de post-agrandissement, et calcul du facteur d'agrandissement du troisième motif; une étape, après l'agrandissement de la plaque originale lithographique pour inspection, d'acquisition d'informations d'emplacement de défaut pour le deuxième motif; et une étape d'acquisition d'informations d'emplacement de défaut pour le premier motif de la plaque originale, sur la base des informations d'emplacement de défaut pour le deuxième motif post-agrandissement, et du facteur d'agrandissement du troisième motif post-agrandissement.
(JA)  実施形態の原版の検査方法は、原版に設けられた第1パターンに対応する第2パターンと、前記第2パターンが設けられた面の反対面の第2面に第3パターンが設けられた検査用原版を用意する工程と、前記検査用リソグラフィ原版を拡大させる工程と、前記検査用原版を拡大後、拡大前の第3パターンと拡大後の前記第3パターンの寸法を比較して前記第3パターンの拡大率を算出する工程と、前記検査用リソグラフィ原版を拡大後、前記第2パターンの欠陥の位置情報を取得する工程と、拡大後の前記第2パターンの欠陥の位置情報と、拡大後の前記第3パターンの拡大率とに基づいて、前記原版の前記第1パターンの欠陥の位置情報を取得する工程と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)