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1. (WO2015137198) 多層膜の製造方法および多層膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/137198 国際出願番号: PCT/JP2015/056238
国際公開日: 17.09.2015 国際出願日: 03.03.2015
IPC:
C23C 14/08 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,H01L 21/316 (2006.01) ,H01L 41/187 (2006.01) ,H01L 41/316 (2013.01) ,H01L 41/319 (2013.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
08
酸化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
314
無機物層,
316
酸化物またはガラス性酸化物または酸化物を基礎としたガラスからなるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
16
材料の選択
18
圧電または電歪素子用
187
セラミック組成物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
22
圧電または電歪装置またはその部品の組み立て,製造または処理に特に適用される方法または装置
31
圧電部品または電歪部品,あるいはそれらの本体を,電気素子または他の基板の上に貼付け
314
圧電層または電磁層の堆積による,例.エアロゾルまたはスクリーン印刷
316
気相堆積による
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
22
圧電または電歪装置またはその部品の組み立て,製造または処理に特に適用される方法または装置
31
圧電部品または電歪部品,あるいはそれらの本体を,電気素子または他の基板の上に貼付け
314
圧電層または電磁層の堆積による,例.エアロゾルまたはスクリーン印刷
319
下地膜を用いる方法,例.成長制御
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ケ崎市萩園2500 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
小林 宏樹 KOBAYASHI Hiroki; JP
逸見 充則 HENMI Mitsunori; JP
廣瀬 光隆 HIROSE Mitsutaka; JP
塚越 和也 TSUKAGOSHI Kazuya; JP
木村 勲 KIMURA Isao; JP
鄒 弘綱 SUU Koukou; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA Masatake; JP
優先権情報:
2014-04681410.03.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER FILM, AND MULTILAYER FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MULTICOUCHE, ET FILM MULTICOUCHE
(JA) 多層膜の製造方法および多層膜
要約:
(EN)  In this method for manufacturing a multilayer film, an electroconductive layer (3) is formed on a substrate (2, 31), a seed layer (4) containing an oxide having a Perovskite structure is sputtered so as to cover the electroconductive layer (3), and a dielectric layer (5) is formed so as to cover the seed layer (4).
(FR)  Dans ce procédé de fabrication d'un film multicouche, une couche électroconductrice (3) est formée sur un substrat (2, 31), une couche de germe (4) contenant un oxyde présentant une structure Pérovskite est pulvérisée de façon à recouvrir la couche électroconductrice (3), et une couche diélectrique (5) est formée de manière à recouvrir la couche de germe (4).
(JA)  本発明の多層膜の製造方法は、基板(2、31)に導電層(3)を形成し、前記導電層(3)を覆うように、ペロブスカイト構造を有する酸化物を含むシード層(4)をスパッタ法により形成し、前記シード層(4)を覆うように誘電体層(5)を形成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
EP3118347US20170018702JPWO2015137198CN106062239KR1020160130999