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1. (WO2015136913) 表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物、表面処理剤、表面処理剤キットおよび表面修飾基材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/136913 国際出願番号: PCT/JP2015/001277
国際公開日: 17.09.2015 国際出願日: 09.03.2015
IPC:
C09K 3/00 (2006.01) ,B01J 31/14 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C07F 7/08 (2006.01) ,C07F 7/10 (2006.01) ,C07F 9/40 (2006.01) ,C07F 15/02 (2006.01) ,C07F 17/02 (2006.01) ,C07F 19/00 (2006.01) ,C09K 3/18 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
31
水素化物,配位錯体または有機化合物からなる触媒(重合反応においてのみ使用される触媒組成物C08)
02
有機化合物または金属水素化物を含有するもの
12
有機金属化合物または金属水素化物を含有するもの
14
アルミニウムまたはほう素に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
7
周期律表の第4族の元素を含有する化合物
02
ケイ素化合物
08
1個以上のC-Si結合をもつ化合物
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
7
周期律表の第4族の元素を含有する化合物
02
ケイ素化合物
08
1個以上のC-Si結合をもつ化合物
10
窒素を含有するもの
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
9
周期律表の第5族の元素を含有する化合物
02
リン化合物
28
1個以上のP-C結合をもつもの
38
ホスホン酸(R-P(:O)(OH)↓2);チオホスホン酸
40
それらのエステル
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
15
周期律表の第8族の元素を含有する化合物
02
鉄化合物
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
17
メタロセン
02
鉄族または白金族の金属のもの
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
19
メイングループ1/00から17/00のうち2以上のメイングループにわたる金属化合物
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
18
氷,霧,水の付着を減少させるために表面に適用するもの;表面に適用する解氷(雪)用あるいは氷点降下用物質
出願人:
国立大学法人京都大学 KYOTO UNIVERSITY [JP/JP]; 京都府京都市左京区吉田本町36番地1 36-1, Yoshida-honmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6068501, JP
発明者:
中西 和樹 NAKANISHI, Kazuki; JP
モイトラ ニルマリヤ MOITRA, Nirmalya; JP
金森 主祥 KANAMORI, Kazuyoshi; JP
嶋田 豊司 SHIMADA, Toyoshi; JP
代理人:
鎌田 耕一 KAMADA, Koichi; JP
優先権情報:
2014-04610210.03.2014JP
2014-26621126.12.2014JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING CONJUGATE, NOVEL HYDROSILANE COMPOUND, SURFACE TREATMENT AGENT, SURFACE TREATMENT AGENT KIT, AND SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT À SURFACE MODIFIÉE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CONJUGUÉ, NOUVEAU COMPOSÉ D'HYDROSILANE, AGENT DE TRAITEMENT DE SURFACE, KIT D'AGENT DE TRAITEMENT DE SURFACE, ET SUBSTRAT À SURFACE MODIFIÉE
(JA) 表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物、表面処理剤、表面処理剤キットおよび表面修飾基材
要約:
(EN)  This method for producing a surface-modified substrate includes a step for bringing into contact, in the presence of a borane catalyst, a substrate having polar groups present on the surface thereof and a hydrosilane compound having an Si-H group in which a hydrogen atom is bonded to a silicon atom of molecular structure A, and causing a dehydrocondensation reaction to advance between the substrate and the compound, thereby forming a substrate having a surface modified by molecular structure A. This production process makes it possible to modify the substrate surface in a shorter time and at a lower temperature than in the past, and provides a high degree of freedom in terms of the shape, type, and use of the substrate, the form of the modification reaction, the type of molecular structure used to modify the substrate surface, and the like.
(FR)  Le procédé de production d'un substrat à surface modifiée selon l'invention comprend une étape consistant à mettre en contact, en présence d'un catalyseur de borane, un substrat ayant des groupes polaires présents sur sa surface et un composé d'hydrosilane contenant un groupe Si-H dans lequel un atome d'hydrogène est lié à un atome de silicium de la structure moléculaire A, et à faire en sorte qu'une réaction de déshydrocondensation progresse entre le substrat et le composé, pour former ainsi un substrat ayant une surface modifiée par la structure moléculaire A. Ce procédé de production permet de modifier la surface du substrat en un temps plus court et à une température inférieure que dans le passé, et offre un degré élevé de liberté en termes de forme, type, et utilisation du substrat, de forme de la réaction de modification, de type de structure moléculaire utilisée pour modifier la surface du substrat, et autres.
(JA)  本発明の表面修飾基材の製造方法は、極性基が表面に存在する基材と、分子構造Aのケイ素原子に水素原子が結合したSi-H基を有するヒドロシラン化合物と、をボラン触媒の存在下で接触させ、基材と上記化合物との間で脱水素縮合反応を進行させることで、分子構造Aにより表面が修飾された基材を形成する工程を含む。この製造方法では、従来よりも低温かつ短時間での基材表面の修飾が可能であるとともに、基材の形状、種類および用途、修飾反応の形態、ならびに基材表面に修飾させる分子構造の種類などの自由度が高い。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
EP3118277US20170022223JPWO2015136913