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1. (WO2015133338) 成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/133338 国際出願番号: PCT/JP2015/055291
国際公開日: 11.09.2015 国際出願日: 24.02.2015
IPC:
C23C 24/04 (2006.01) ,B05B 7/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
24
無機質粉末から出発する被覆
02
圧力のみを加えることによるもの
04
粒子の衝撃析出または動力学的析出
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
7
2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの(B05B3/00,B05B5/00が優先
14
粒状材料を噴霧するために設計されたもの
出願人:
日本発條株式会社 NHK SPRING CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市金沢区福浦3丁目10番地 3-10, Fukuura, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2360004, JP
発明者:
平野 智資 HIRANO, Satoshi; JP
川崎 公一 KAWASAKI, Koichi; JP
代理人:
酒井 宏明 SAKAI, Hiroaki; JP
優先権情報:
2014-04545907.03.2014JP
発明の名称: (EN) FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
要約:
(EN)  Provided is a cold-spray-scheme film formation device, wherein the amount of powder adhering to the inner walls of the channels through which the powder passes can be made uniform. The film formation device is provided with: a gas/powder mixing part for mixing a gas and a powder and supplying the gas and powder to a nozzle (5); a gas chamber (11) communicating with the gas/powder mixing part (10) via at least one gas through-port (13a), said gas chamber (11) introducing the gas into the gas/powder mixing part (10); a powder supply tube (12) for supplying the powder to the gas/powder mixing part (10), said tube (12) passing through the gas chamber (11) and causing a powder output opening (12a) to project into the gas/powder mixing part (10), and said tube (12) being disposed facing in the direction of the tip of the nozzle (5); and a flow adjusting part (14) provided around the powder supply tube (12) inside the gas chamber (11), said flow adjusting part (14) regulating the flow of the gas introduced into the gas chamber (11) and causing the gas to pass through the gas through-port (13a).
(FR)  L'invention concerne un dispositif de formation de film à système de pulvérisation à froid dans lequel la quantité de poudre adhérant aux parois internes des canaux qu'elle traverse peut être uniformisée. Le dispositif de formation de film comprend : une partie de mélange gaz/poudre pour mélanger un gaz et une poudre, et alimenter une buse (5) en gaz et en poudre ; une chambre de gaz (11) communiquant avec la partie de mélange gaz/poudre (10) via au moins un orifice de passage de gaz (13a), ladite chambre de gaz (11), ladite chambre de gaz introduisant le gaz dans la partie de mélange gaz/poudre (10) ; un tube d'alimentation en poudre (12) pour alimenter en poudre la partie de mélange gaz/poudre (10), ledit tube (12) traversant la chambre de gaz (11) et amenant une ouverture de sortie de poudre (12a) à faire saillie dans la partie de mélange gaz/poudre (10), et étant tourné vers la direction de la pointe de la buse (5) ; et une partie de réglage d'écoulement (14) disposée autour du tube d'alimentation en poudre (12) à l'intérieur de la chambre de gaz (11) régulant l'écoulement du gaz introduit dans la chambre de gaz (11) et amenant le gaz à traverser l'orifice de passage de gaz. (13A)
(JA)  コールドスプレー法による成膜装置において、粉末が通過する通路の内壁に付着する粉末の量を均一化することができる成膜装置を提供する。成膜装置は、ガスと粉末とを混合してノズル5に供給するガス粉末混合部10と、少なくとも1つのガス通過口13aを介してガス粉末混合部10と連通し、ガス粉末混合部10にガスを導入するガス室11と、ガス粉末混合部10に粉末を供給する粉末供給管であって、ガス室11を貫通し、粉末の出射口12aをガス粉末混合部10に突出させると共にノズル5の先端方向に向けて配置された粉末供給管12と、ガス室11内の粉末供給管12の周囲に設けられ、ガス室11に導入されたガスを整流してガス通過口13aを通過させる整流部14とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)