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1. (WO2015133324) 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/133324 国際出願番号: PCT/JP2015/055141
国際公開日: 11.09.2015 国際出願日: 24.02.2015
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,H04N 9/07 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
9
カラーテレビジョン方式の細部
04
画像信号発生装置
07
1つの撮像装置のみを有するもの
出願人:
ソニー株式会社 SONY CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南1丁目7番1号 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
発明者:
桝田 佳明 MASUDA Yoshiaki; JP
水田 恭平 MIZUTA Kyohei; JP
井上 啓司 INOUE Keishi; JP
篠崎 明 SHINOZAKI Akira; JP
代理人:
西川 孝 NISHIKAWA Takashi; JP
優先権情報:
2014-04403706.03.2014JP
発明の名称: (EN) SOLID-STATE IMAGING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器
要約:
(EN) The present disclosure relates to: a solid-state imaging device wherein application unevenness of a color filter is able to be reduced; a method for manufacturing the solid-state imaging device; and an electronic device. A color filter and a plurality of connection unit regions are formed on a sensor substrate. At least one connection unit region among the plurality of connection unit regions is arranged at a predetermined distance from the other connection unit regions. The present disclosure is applicable, for example, to a backside-illuminated CMOS image sensor having a multilayer structure, a frontside-illuminated CMOS image sensor having a multilayer structure, a CCD image sensor and the like.
(FR) La présente invention porte sur : un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs dans lequel une irrégularité d'application d'un filtre coloré est apte à être réduite ; un procédé de fabrication du dispositif d'imagerie à semi-conducteurs ; et un dispositif électronique. Un filtre coloré et une pluralité de régions d'unité de connexion sont formés sur un substrat de capteur. Au moins une région d'unité de connexion parmi la pluralité de régions d'unité de connexion est agencée au niveau d'une distance prédéterminée à partir des autres régions d'unité de connexion. La présente invention est applicable, par exemple, à un capteur d'image CMOS éclairé depuis le côté arrière ayant une structure multicouche, à un capteur d'image CMOS éclairé depuis le côté avant ayant une structure multicouche, à un capteur d'image CCD et analogue.
(JA)  本開示は、カラーフィルタの塗布ムラを低減することができるようにする固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器に関する。 センサ基板上には、カラーフィルタと複数の接続ユニット領域が形成される。複数の接続ユニット領域のうちの少なくとも1つの接続ユニット領域は、他の接続ユニット領域と所定の間隔だけ離れるように配置される。本開示は、例えば、積層構造の裏面照射型のCMOSイメージセンサ、積層構造の表面照射型のCMOSイメージセンサ、CCDイメージセンサ等に適用することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20170077169CN106062955KR1020160130210