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1. (WO2015133270) 偏光板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/133270 国際出願番号: PCT/JP2015/054389
国際公開日: 11.09.2015 国際出願日: 18.02.2015
IPC:
G02B 5/30 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
竹之熊 直子 TAKENOKUMA, Naoko; JP
代理人:
特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; 大阪府大阪市北区中之島二丁目2番7号 中之島セントラルタワー Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
優先権情報:
2014-04413206.03.2014JP
発明の名称: (EN) POLARIZING PLATE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE POLARISANTE
(JA) 偏光板の製造方法
要約:
(EN) Provided is a polarizing plate manufacturing method that includes the following steps, in order: a step for adhering a protective film upon a polarizer layer in a laminated polarizing film obtained by providing a polarizer layer on at least one surface of a base film, with an adhesive layer therebetween; a step for drying the adhesive layer by conducting heat treatment in an environment with a relative humidity of 25% or higher; and a step for peeling away and removing the base film.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de plaque polarisante, qui comprend les étapes consistant, dans l'ordre, à : faire adhérer un film protecteur sur une couche de polariseur d'un film polarisant stratifié obtenu par utilisation d'une couche de polariseur sur au moins une surface d'un film de base, avec une couche adhésive entre eux ; faire sécher la couche adhésive par mise en œuvre d'un traitement thermique dans un environnement présentant une humidité relative de 25 % ou plus ; et détacher et enlever le film de base.
(JA)  基材フィルムの少なくとも一方の面上に偏光子層を備える偏光性積層フィルムの偏光子層上に、接着剤層を介して保護フィルムを貼合する工程と、相対湿度25%以上の環境下に熱処理を行って接着剤層を乾燥させる工程と、基材フィルムを剥離除去する工程とをこの順で含む偏光板の製造方法が提供される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN107223213KR1020160130244