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1. (WO2015133269) 偏光板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/133269 国際出願番号: PCT/JP2015/054386
国際公開日: 11.09.2015 国際出願日: 18.02.2015
IPC:
G02B 5/30 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
竹之熊 直子 TAKENOKUMA, Naoko; JP
代理人:
特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; 大阪府大阪市北区中之島二丁目2番7号 中之島セントラルタワー Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
優先権情報:
2014-04412306.03.2014JP
発明の名称: (EN) POLARIZING PLATE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE DE POLARISATION
(JA) 偏光板の製造方法
要約:
(EN) Provided is a polarizing plate manufacturing method that includes the following steps, in order: a step for adhering a protective film, which has been adjusted to have a moisture regain that is higher than the equilibrium moisture regain at 25°C and 55% RH, to a polarizer layer in a laminated polarizing film obtained by providing a polarizer layer on at least one surface of a base film, with an adhesive layer therebetween; and a step for peeling away and removing the base film.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de plaque de polarisation qui comprend, dans l'ordre, les étapes suivantes : une étape consistant à faire adhérer un film de protection, qui a été ajusté de sorte à présenter un taux de reprise d'humidité qui est plus élevé que le taux de reprise d'humidité d'équilibre à une température de 25 °C et à un taux d'humidité relative de 55 %, à une couche de polarisation dans un film de polarisation stratifié obtenu par agencement d'une couche de polarisation sur au moins une surface d'un film de base, une couche adhésive étant intercalée entre ces derniers ; et une étape consistant à détacher et à enlever le film de base.
(JA)  基材フィルムの少なくとも一方の面上に偏光子層を備える偏光性積層フィルムの偏光子層上に、25℃55%RHでの平衡水分率よりも高い水分率に調整した保護フィルムを接着剤層を介して貼合する工程と、基材フィルムを剥離除去する工程とをこの順で含む偏光板の製造方法が提供される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN106062595KR1020160130225