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1. (WO2015132830) 真空処理装置及び真空処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/132830 国際出願番号: PCT/JP2014/005862
国際公開日: 11.09.2015 国際出願日: 21.11.2014
予備審査請求日: 29.05.2015
IPC:
C23C 14/58 (2006.01) ,G11B 5/84 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
出願人:
キヤノンアネルバ株式会社 CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550, JP
発明者:
薬師神 弘士 YAKUSHIJI, Hiroshi; JP
芝本 雅弘 SHIBAMOTO, Masahiro; JP
代理人:
大塚 康徳 OHTSUKA, Yasunori; JP
優先権情報:
2014-04168504.03.2014JP
発明の名称: (EN) VACUUM PROCESSING DEVICE AND VACUUM PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT SOUS VIDE
(JA) 真空処理装置及び真空処理方法
要約:
(EN) A vacuum processing method for a magnetic recording medium, which comprises a surface protective layer which protects a magnetic recording layer formed upon a substrate, comprises: a ta-C film formation step for forming a ta-C film upon a magnetic recording layer; a transport step for transporting the substrate upon which the ta-C film has been formed; a radical generation step for exciting a process gas and generating radicals; and a radical processing step for irradiating the radicals onto the surface of the ta-C film.
(FR) L'invention porte sur un procédé de traitement sous vide pour un support d'enregistrement magnétique, qui comprend une couche protectrice de surface qui protège une couche d'enregistrement magnétique formée sur un substrat, comprenant : une étape de formation de film de Ta-C consistant à former un film de Ta-C sur une couche d'enregistrement magnétique ; une étape de transport consistant à transporter le substrat sur lequel le film de Ta-C a été formé ; une étape de production de radicaux consistant à exciter un gaz de traitement et produire des radicaux ; et une étape de traitement par des radicaux consistant à rayonner les radicaux sur la surface du film de Ta-C.
(JA)  基板上に形成された前記磁気記録層を保護する表面保護層を有する磁気記録媒体の真空処理方法は、磁気記録層の上にta-C膜を形成するta-C膜形成工程と、ta-C膜が形成された基板を搬送する搬送工程と、プロセスガスを励起してラジカルを発生させるラジカル発生工程と、ta-C膜の表面に前記ラジカルを照射するラジカル処理工程とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20160232932SG11201603358P