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1. (WO2015129884) シリコン基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129884 国際出願番号: PCT/JP2015/055937
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 27.02.2015
IPC:
H01L 31/0236 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
02
細部
0236
特別の表面構造
出願人:
国立大学法人大阪大学 OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 大阪府吹田市山田丘1番1号 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871, JP
ダイキン工業株式会社 DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中崎西2丁目4番12号 梅田センタービル Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323, JP
発明者:
森田 瑞穂 MORITA, Mizuho; JP
川合 健太郎 KAWAI, Kentaro; JP
打越 純一 UCHIKOSHI, Junichi; JP
足達 健二 ADACHI, Kenji; null
永井 隆文 NAGAI, Takabumi; null
代理人:
特許業務法人三枝国際特許事務所 SAEGUSA & PARTNERS; 大阪府大阪市中央区道修町1-7-1 北浜TNKビル Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045, JP
優先権情報:
2014-03995728.02.2014JP
発明の名称: (EN) SILICON SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE SILICIUM
(JA) シリコン基板
要約:
(EN) Provided is a method for freely and easily forming a silicon substrate having a surface shape with various reflection prevention functions, and a silicon substrate obtained using the method. Provided is a silicon substrate having formed on at least one surface thereof at least one of (A) a recessed part of reverse-pyramid shape having a side surface formed with a vertically extending groove, (B) a recessed part of substantially reverse-pyramid shape having a side surface formed with a vertically extending groove and a side surface having a triangular mark formed thereon, (C) a recessed part of reverse-pyramid shape having a side surface having a triangular mark formed thereon, (D) a recessed part of reverse-pyramid shape having a side surface formed with a vertically extending groove and a hole of reverse-pyramid shape, and (E) a recessed part of reverse-polygonal pyramid shape that is a polygon with at least five bottom surfaces.
(FR) L'invention porte sur un procédé pour former librement et facilement un substrat de silicium ayant une forme de surface avec diverses fonctions de prévention de réflexion, et sur un substrat de silicium obtenu en utilisant le procédé. La présente invention se rapporte à un substrat de silicium ayant, formée sur au moins une surface de ce dernier, au moins l'une (A) d'une partie renfoncée en forme de pyramide inversée ayant une surface latérale formée avec une rainure s'étendant verticalement, (B) d'une partie renfoncée en forme de pyramide sensiblement inversée ayant une surface latérale formée avec une rainure s'étendant verticalement et une surface latérale ayant une marque triangulaire formée sur cette dernière, (C) d'une partie renfoncée en forme de pyramide inversée ayant une surface latérale ayant une marque triangulaire formée sur cette dernière, (D) d'une partie renfoncée en forme de pyramide inversée ayant une surface latérale formée avec une rainure s'étendant verticalement et un trou en forme de pyramide inversée, et (E) d'une partie renfoncée en forme de pyramide polygonale inversée qui est un polygone avec au moins cinq surfaces de fond.
(JA) 種々の反射防止機能を有する表面形状を有するシリコン基板を自在に且つ簡便に形成できる方法及びそれにより得られるシリコン基板を提供する。 少なくとも片面に、以下の(A)~(E):(A)上下方向に伸びる溝が形成された側面を有する逆ピラミッド形状の凹部、(B)上下方向に伸びる溝が形成された側面と、三角形状の痕が形成された側面とを有する、略逆ピラミッド形状の凹部、(C)三角形状の痕が形成された側面を有する逆ピラミッド形状の凹部、(D)逆ピラミッド形状の孔及び上下方向に伸びる溝が形成された側面を有する逆ピラミッド形状の凹部、(E)底面が5以上の多角形である逆多角錐形状の凹部の少なくとも1つが形成された、シリコン基板。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)