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1. (WO2015129878) 珪化バリウム系バルク体、膜及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129878 国際出願番号: PCT/JP2015/055914
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 27.02.2015
IPC:
C23C 14/06 (2006.01) ,H01L 21/363 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
34
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない21/06,21/16および21/18に分類されない半導体本体を有する装置
36
基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
363
物理的析出を用いるもの,例.真空蒸着,スパッタリング
出願人:
東ソー株式会社 TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市開成町4560番地 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501, JP
国立大学法人筑波大学 UNIVERSITY OF TSUKUBA [JP/JP]; 茨城県つくば市天王台一丁目1番1 1-1-1, Tennodai, Tsukuba-shi, Ibaraki 3058577, JP
発明者:
召田 雅実 MESUDA, Masami; JP
倉持 豪人 KURAMOCHI, Hideto; JP
末益 崇 SUEMASU, Takashi; JP
代理人:
泉名 謙治 SENMYO, Kenji; JP
優先権情報:
2014-03734927.02.2014JP
2014-03735027.02.2014JP
2014-03735127.02.2014JP
2014-09412830.04.2014JP
2014-12166012.06.2014JP
2014-21965428.10.2014JP
発明の名称: (EN) BARIUM-SILICIDE-BASED BULK BODY, FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) CORPS MASSIF À BASE DE SILICIURE DE BARYUM, FILM, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 珪化バリウム系バルク体、膜及びその製造方法
要約:
(EN)  Provided is a barium-silicide-based bulk polycrystalline body, a barium silicide-based film, and an application for the same. A barium-silicide-based bulk polycrystalline body characterized in that [M]/([Ba]+[Si]+[M]) is 0.01-20 atm% and the oxygen content is 20 atm% or less, where [Ba], [Si], and [M] respectively represent the amount of barium, silicon, and a metal element M (at least one element selected from the group consisting of strontium, calcium, and magnesium).
(FR)  L'invention porte sur un corps massif polycristallin à base de siliciure de baryum, sur un film à base de siliciure de baryum, et sur une application pour ceux-ci. Un corps massif polycristallin à base de siliciure de baryum est caractérisé en ce que [M]/([Ba] + [Si] + [M]) varie entre 0,01 et 20 % atomique et la teneur en oxygène est égale ou inférieure à 20 % atomique, [Ba], [Si] et [M] représentant respectivement la quantité de baryum, de silicium et d'un élément métallique M (au moins un élément sélectionné dans le groupe constitué par le strontium, le calcium et le magnésium).
(JA)  珪化バリウム系バルク多結晶体、珪化バリウム系膜及びその用途を提供する。 バリウム、ケイ素及び金属元素M(ストロンチウム、カルシウム及びマグネシウムからなる群から選択される少なくとも1種)の含有量を、それぞれ[Ba]、[Si]及び[M]としたときに、[M]/([Ba]+[Si]+[M])が0.01~20atm%であり、酸素含有量が20atm%以下であることを特徴とする珪化バリウム系バルク多結晶体。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)