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1. (WO2015129780) ディスプレイ基板用樹脂組成物、ディスプレイ基板用樹脂薄膜及びディスプレイ基板用樹脂薄膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129780 国際出願番号: PCT/JP2015/055513
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 26.02.2015
IPC:
C08G 73/10 (2006.01) ,C08L 79/08 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
79
グループ61/00から77/00に属さない,主鎖のみに酸素または炭素を含みまたは含まずに窒素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物
04
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
08
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミドプリカーサー
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
出願人:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
発明者:
江原 和也 EBARA, Kazuya; JP
代理人:
吉澤 敬夫 YOSHIZAWA, Takao; JP
優先権情報:
2014-03816728.02.2014JP
発明の名称: (EN) RESIN COMPOSITION FOR DISPLAY SUBSTRATE, RESIN THIN FILM FOR DISPLAY SUBSTRATE, AND METHOD FOR PRODUCING RESIN THIN FILM FOR DISPLAY SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR SUBSTRAT D'AFFICHAGE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE MINCE DE RÉSINE POUR UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE
(JA) ディスプレイ基板用樹脂組成物、ディスプレイ基板用樹脂薄膜及びディスプレイ基板用樹脂薄膜の製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a resin composition for a display substrate, with which it is possible to form a resin thin film for a display substrate that has a high heat resistance, an appropriate coefficient of linear expansion, and a high tensile strength. The resin composition for a display substrate contains a polyamic acid comprising structural units represented by formula (I) and having a weight-average molecular weight of 10,000 or more, and an organic solvent. In formula (1), X1 represents a tetravalent aromatic group of formula (3), Y1 represents a group represented by formula (P), and n represents a number of repeating units.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine pour un substrat d'affichage, à l'aide de laquelle il est possible de former une couche mince de résine pour un substrat d'affichage qui a une grande résistance à la chaleur, un coefficient de dilatation linéaire approprié et une grande résistance à la traction. La composition de résine pour un substrat d'affichage contient un poly(acide amique) comprenant des motifs structuraux représentés par la formule (I) et ayant une masse moléculaire moyenne en masse de 10 000 ou plus, et un solvant organique. Dans la formule (1), X1 représente un groupe aromatique tétravalent de formule (3), Y1 représente un groupe représenté par la formule (P), et n représente un nombre de motifs répétitifs.
(JA)  本発明によれば、高い耐熱性と、適度な線膨張係数および高い引っ張り強度を有するディスプレイ機基板用樹脂薄膜を形成することができるディスプレイ基板用樹脂組成物が提供される。本発明は、式(1)で表される構造単位を含み、重量平均分子量が10,000以上であるポリアミック酸と、有機溶媒とを含む、ディスプレイ基板用樹脂組成物により、上記課題を解決する。ここで式(1)において、Xは、式(3)の4価の芳香族基を表し、Yは、式(P)で表される基を表し、かつ、nは、繰り返し単位の数を表す。 
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2015129780CN106062037KR1020160127756