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1. (WO2015129682) ポリイミド樹脂、これを用いた樹脂組成物および積層フィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129682 国際出願番号: PCT/JP2015/055222
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 24.02.2015
IPC:
C08G 73/10 (2006.01) ,B32B 27/34 (2006.01) ,C08K 5/06 (2006.01) ,C08L 79/08 (2006.01) ,C09J 7/00 (2006.01) ,C09J 7/02 (2006.01) ,C09J 11/06 (2006.01) ,C09J 179/08 (2006.01) ,H01L 23/29 (2006.01) ,H01L 23/31 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
34
ポリアミドからなるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K
無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
5
有機配合成分の使用
04
酸素含有化合物
06
エーテル;アセタール;ケタール;オルト―エステル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
79
グループ61/00から77/00に属さない,主鎖のみに酸素または炭素を含みまたは含まずに窒素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物
04
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
08
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミドプリカーサー
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J
接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
7
フィルム状または箔状の接着剤
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J
接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
7
フィルム状または箔状の接着剤
02
担体上のもの
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J
接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
11
グループ9/00に分類されない接着剤の特徴,例.添加剤
02
非高分子添加剤
06
有機物
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J
接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
179
グループ161/00から177/00に属さない,主鎖のみに酸素または炭素を含みまたは含まずに窒素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づく接着剤
04
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合体;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のボリイミド前駆物質
08
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23
半導体または他の固体装置の細部
28
封緘,例.封緘層,被覆
29
材料に特徴のあるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23
半導体または他の固体装置の細部
28
封緘,例.封緘層,被覆
31
配列に特徴のあるもの
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
富川真佐夫 TOMIKAWA, Masao; JP
渡邉拓生 WATANABE, Takuo; JP
李忠善 LEE, Chungseo; KR
優先権情報:
2014-03490026.02.2014JP
発明の名称: (EN) POLYIMIDE RESIN, RESIN COMPOSITION USING SAME, AND LAMINATED FILM
(FR) RÉSINE DE POLYIMIDE, COMPOSITION DE RÉSINE L'UTILISANT, ET FILM STRATIFIÉ
(JA) ポリイミド樹脂、これを用いた樹脂組成物および積層フィルム
要約:
(EN) Provided are a polyimide resin having high heat resistance which is free of voids even in a large area and is capable of uniform temporary adhesion, and a resin composition and a laminated film using the same. The present invention is a polyimide resin having at least an acid anhydride residue and a diamine residue, the polyimide resin including at least 60 mol% of a polysiloxane-based diamine residue in the total amount of diamine residue.
(FR) L'invention concerne une résine de polyimide ayant une grande résistance à la chaleur, qui est exempte de cavités même dans une zone étendue, et qui est capable de présenter une adhérence temporaire uniforme, et une composition de résine et un film stratifié l'utilisant. La présente invention porte sur une résine de polyimide ayant au moins un résidu anhydride d'acide et un résidu diamine, la résine de polyimide comprenant au moins 60 % en moles d'un résidu diamine à base d'un polysiloxane, par rapport à la quantité totale du résidu diamine.
(JA) 高い耐熱性を有し、大面積でもボイド等がなく均一に仮接着することが可能であるポリイミド樹脂、これを用いた樹脂組成物および積層フィルムを提供する。 本発明は、少なくとも酸無水物残基とジアミン残基を有するポリイミド樹脂であり、全ジアミン残基中、ポリシロキサン系ジアミンの残基を60モル%以上含むポリイミド樹脂である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN106029744SG11201606994XUS20160372357EP3112394JPWO2015129682MYPI 2016703094
KR1020160127032